[发明专利]高频处理装置在审
申请号: | 202180014965.4 | 申请日: | 2021-01-26 |
公开(公告)号: | CN115104379A | 公开(公告)日: | 2022-09-23 |
发明(设计)人: | 大森义治;细川大介;中村秀树;前田和树;夘野高史 | 申请(专利权)人: | 松下知识产权经营株式会社 |
主分类号: | H05B6/64 | 分类号: | H05B6/64;H05B6/68;H05B6/70 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 曹磊;马建军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高频 处理 装置 | ||
1.一种高频处理装置,其中,所述高频处理装置具备:
加热室,其构成为收纳被加热物;
振荡部,其能够以如下方式进行动作:产生具有规定的频带中的任意频率的高频电力;
至少一个供电部,其能够以如下方式进行动作:将基于所述高频电力的入射电力向所述加热室供给;
检测部,其能够以如下方式进行动作:对所述入射电力和从所述加热室返回到所述至少一个供电部的反射电力进行检测;以及
控制部,
所述控制部能够以如下方式进行动作:使所述振荡部进行频率扫描,并且基于包含频率的每个加热条件的所述入射电力和所述反射电力来测定反射特性,
所述控制部能够以如下方式进行动作:基于每个所述加热条件的表示所述反射特性的变化的反射变动幅度来决定接下来使用的加热条件。
2.根据权利要求1所述的高频处理装置,其中,
所述高频处理装置还具备相位调整部,
所述至少一个供电部包含第一供电部和第二供电部,
所述相位调整部与所述振荡部连接,能够以如下方式进行动作:调整应由所述第一供电部供给的所述高频电力与应由所述第二供电部供给的所述高频电力的相位差,
所述控制部能够以如下方式进行动作:使所述相位调整部进行相位扫描,并且基于还包含所述相位差的每个所述加热条件的所述入射电力和所述反射电力来测定所述反射特性。
3.根据权利要求1所述的高频处理装置,其中,
所述控制部能够以如下方式进行动作:将所述反射变动幅度的绝对值小于阈值的所述加热条件决定为所述接下来使用的加热条件。
4.根据权利要求3所述的高频处理装置,其中,
所述阈值是对所述反射变动幅度的绝对值乘以规定的系数而得到的值。
5.根据权利要求1所述的高频处理装置,其中,
所述高频处理装置还具备存储部,
所述控制部能够以如下方式进行动作:在每次决定所述接下来使用的加热条件时使所述反射特性存储于所述存储部。
6.根据权利要求5所述的高频处理装置,其中,
所述控制部能够以如下方式进行动作:在每次计算出所述反射变动幅度时计算出所述反射变动幅度的最大值,将所述最大值存储于所述存储部,基于所述最大值来决定所述接下来使用的加热条件。
7.根据权利要求5所述的高频处理装置,其中,
所述控制部能够以如下方式进行动作:在每次计算出所述反射变动幅度时计算出所述反射变动幅度的累积值,将所述累积值存储于所述存储部,基于所述累积值来决定所述接下来使用的加热条件。
8.根据权利要求5所述的高频处理装置,其中,
所述控制部能够以如下方式进行动作:将每个所述加热条件的所述反射变动幅度的值中的、具有与跟过去的加热条件相同的所述加热条件下的所述反射变动幅度的值不同的符号的值置换为0。
9.根据权利要求2所述的高频处理装置,其中,
所述频率扫描是遍及所述规定的频带地使所述频率以均匀或不均匀的间隔变化的动作,所述相位扫描是遍及规定的角度范围地使所述相位差以均匀或不均匀的间隔变化的动作。
10.根据权利要求5所述的高频处理装置,其中,
所述控制部能够以如下方式进行动作:使所述存储部仅存储表现出变化的极值的所述反射特性。
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