[发明专利]高频处理装置

说明书

本公开的一个方式的高频处理装置具备：收纳被加热物的加热室；振荡部；至少一个供电部；检测部；以及控制部。振荡部产生具有规定的频带中的任意频率的高频电力。至少一个供电部将基于高频电力的入射电力向加热室供给。检测部对入射电力和从加热室返回到至少一个供电部的反射电力进行检测。控制部使振荡部进行频率扫描，并且基于包含频率的每个加热条件的入射电力和反射电力来测定反射特性。控制部基于每个加热条件的表示反射特性的变化的反射变动幅度来决定接下来使用的加热条件。根据本方式，能够最佳地加热各种被加热物。

技术领域

本公开涉及高频处理装置(High-frequency treatment device)。

背景技术

例如，在专利文献1中记载了以在加热空间进行共振的方式电波的波长与壳体的尺寸相关联的关联性即模态条件。

根据专利文献1，如果满足模态条件，则通过选择场模式(Field pattern)与供给电力的组合，能够进行期望的加热分布下的加热。场模式与供给电力的组合由与频率、相位、其他的MSE(Modulation space elements：调制空间元素)相关的参数(Parameter)决定。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-129141号公报

发明内容

但是，依赖于被加热物的形状、量、处理数、配置、被加热物内的介电常数分布等，被加热物所吸收的电力的分布发生变化。当受到该影响而以高频电力对被加热物进行加热时，在壳体内的空间中，与无负载的共振状态相比，电磁场分布发生偏移。

在加热开始时刻，难以推定加热中的高频电力的分布。若使用红外线传感器等，则能够掌握加热中的温度分布的变化。但是，产生能够修正所产生的温度不均的电磁场的分布是非常困难的。

在未正确地掌握被加热物所吸收的电力的分布的情况下，即使切换频率等，也难以实质上改善加热不均。

本公开用于解决上述以往的问题，其目的在于提供一种能够适当地对各种被加热物进行加热的高频处理装置。

本公开的一个方式的高频处理装置具备：对被加热物进行收容的加热室；振荡部；至少一个供电部；检测部；以及控制部。

振荡部产生具有规定的频带中的任意频率的高频电力。至少一个供电部将基于高频电力的入射电力向加热室供给。检测部检测入射电力和从加热室返回到至少一个供电部的反射电力。

控制部使振荡部进行频率扫描，并且基于包含频率的每个加热条件的入射电力和反射电力来测定反射特性。控制部基于每个加热条件的表示反射特性的变化的反射变动幅度来决定接下来使用的加热条件。

根据本方式，能够最佳地加热各种被加热物。

附图说明

图1是表示本公开的实施方式的一例的高频加热装置的概略构成图。

图2A是表示针对图1所示的构成的解析模型的概略构成图。

图2B是表示图2A所示的解析模型中的加热前的被加热物内的物性值的分布的图。

图2C是表示图2A所示的解析模型中的加热后的被加热物内的物性值的分布的图。

图3A是表示实施方式的一例中的反射电力的频率特性的一例的图。

图3B是表示实施方式的一例中的反射电力的频率特性的另一例的图。

图4A是表示实施方式的一例中的吸收电力分布的一例的等高线图。

图4B是表示实施方式的一例中的吸收电力分布的一例的等高线图。