[发明专利]光学式检测装置以及光学式检测装置中的光轴偏移判定方法

说明书

本发明提供一种光学式检测装置(10)。光学式检测装置(10)具备：发光部(30)，具备多个发光元件(32)；受光部(20)，具备受光元件阵列(22)，该受光元件阵列(22)由接受与发光部(30)的照射光相应的反射光的多个受光像素形成；储存部，储存与发光部(30)的照射光所包含的光强度斑的产生位置对应的受光元件阵列(22)中的基准受光区域；以及判定部(100)，使用基准受光区域和受光元件阵列(22)中的照射光的反射光所包含的光强度斑的检测受光区域的位置偏移来判定光轴偏移。

相关申请的交叉引用

本申请主张基于在2020年2月26日申请的申请号2020-29960的日本专利申请、以及在2021年2月10日申请的申请号2021-19781的日本专利申请的优先权，通过参照在此引用其所有的公开。

技术领域

本公开涉及用于在光学式检测装置中判定光轴偏移的技术。

背景技术

已知在通过扫描激光来检测存在于前方的物体、距离的测距装置中检测光轴偏移的技术(例如，日本特开2007-248056号公报)。

然而，在现有的技术中，为了检测光轴偏移，需要存在前行车辆作为外界的参照对象物。另外，在由于从测距装置输出的输出信号的强度降低而检测出光轴偏移的情况下，到检测出光轴偏移为止需要时间。

因此，需要光学式检测装置以单体提早判定光学式检测装置中的光轴偏移。

发明内容

本公开能够作为以下的方式来实现。

第一方式提供光学式检测装置。第一方式的光学式检测装置具备：发光部，具备多个发光元件；受光部，具备受光元件阵列，该受光元件阵列由接受与上述发光部的照射光相应的反射光的多个受光像素形成；储存部，储存与上述发光部的照射光所包含的光强度斑的产生位置对应的上述受光元件阵列中的基准受光区域；以及判定部，使用上述基准受光区域和上述受光元件阵列中的上述照射光的反射光所包含的光强度斑的检测受光区域的偏移来判定光轴偏移。

根据第一方式的光学式检测装置，光学式检测装置能够以单体提早判定光学式检测装置中的光轴偏移。

第二方式提供光学式检测装置中的光轴偏移判定方法。第二方式的光学式检测装置中的光轴偏移判定方法通过受光部获取受光元件阵列中的上述照射光的反射光所包含的光强度斑的检测受光区域，上述受光部具备上述受光元件阵列，该受光元件阵列由接受与具有多个发光元件的发光部的照射光相应的反射光的多个受光像素形成，获取与上述照射光所包含的光强度斑的产生位置对应且预先准备的上述受光元件阵列中的基准受光区域，使用上述基准受光区域和上述检测受光区域的偏移来判定光轴偏移。

根据第二方式的光学式检测装置中的光轴偏移判定方法，光学式检测装置能够以单体提早判定光学式检测装置中的光轴偏移。此外，本公开也能够作为光学式检测装置中的光轴偏移判定程序或者记录该程序的计算机可读取的记录介质来实现。

附图说明

通过参照附图进行下述的详细的描述，关于本公开的上述目的以及其他的目的、特征、优点变得更加明确。

图1是表示搭载有第一实施方式的光学式检测装置的车辆的一个例子的说明图。

图2是表示在第一实施方式中使用的光学式检测装置的示意结构的说明图。

图3是示意性地表示在第一实施方式中使用的受光元件阵列的说明图。

图4是表示现有例中的发光元件、受光像素以及发光强度的关系的说明图。

图5是表示现有例中的发光元件、受光像素以及发光强度的关系的说明图。

图6是表示第一实施方式的光学式检测装置中的发光元件、受光像素以及发光强度的关系的说明图。