[发明专利]图像处理装置、方法及程序在审
申请号: | 202180021255.4 | 申请日: | 2021-02-09 |
公开(公告)号: | CN115297778A | 公开(公告)日: | 2022-11-04 |
发明(设计)人: | 小池崇文 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;A61B6/02;G06T1/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 韩香花 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像 处理 装置 方法 程序 | ||
1.一种图像处理装置,其具备至少1个处理器,
所述处理器被构成为:
从表示被摄体的多个断层面的多个断层图像检测关注结构,
在检测到所述关注结构的区域中,根据频带从所述多个断层图像中选择断层图像,
在被检测到所述关注结构的区域中使用所述选择的断层图像生成合成二维图像,在未检测到所述关注结构的区域中使用预先设定的断层图像生成合成二维图像。
2.根据权利要求1所述的图像处理装置,其中,
所述处理器被构成为:
通过对所述多个断层图像进行频率分解,按照多个频带的每个频带导出多个频带断层图像,
按照所述多个频带断层图像中的与所述合成二维图像的像素对应的每个像素,根据所述频带,选择与被检测到所述关注结构的断层图像对应的频带断层图像,
在检测到所述关注结构的区域中,使用所述选择的频带断层图像生成所述合成二维图像。
3.根据权利要求2所述的图像处理装置,其中,
所述处理器被构成为:根据所述频带,从所述多个频带断层图像中选择不同数量的与检测到所述关注结构的断层图像对应的频带断层图像。
4.根据权利要求2或3所述的图像处理装置,其中,
所述多个频带包含第1频带以及比所述第1频带低的第2频带,
所述处理器被构成为:在所述第1频带中,与所述第2频带相比选择更少数量的所述频带断层图像。
5.根据权利要求4所述的图像处理装置,其中,
所述处理器被构成为:在所述第2频带中,按照所述多个频带断层图像中的与所述合成二维图像的像素对应的每个像素,选择包含所述关注结构的所有的所述频带断层图像。
6.根据权利要求4所述的图像处理装置,其中,
所述处理器被构成为:在所述第2频带中,按照所述多个频带断层图像中的与所述合成二维图像的像素对应的每个像素,选择最能够表示所述关注结构的1个所述频带断层图像。
7.根据权利要求4至6中任意一项所述的图像处理装置,其中,
所述处理器被构成为:在所述第1频带中,按照所述多个频带断层图像中的与所述合成二维图像的像素位置对应的每个像素位置,选择最能够表示所述关注结构的1个所述频带断层图像。
8.根据权利要求6或7所述的图像处理装置,其中,
最能够表示所述关注结构的1个频带断层图像是所述关注结构最大的频带断层图像或被检测到所述关注结构时似然度最大的频带断层图像。
9.根据权利要求2至8中任意一项所述的图像处理装置,其中,
所述处理器进一步根据所述关注结构的种类选择所述频带断层图像。
10.根据权利要求9所述的图像处理装置,其中,
所述关注结构是肿瘤、毛刺以及钙化。
11.根据权利要求2至10中任意一项所述的图像处理装置,其中,
所述处理器被构成为:在与所述关注结构对应的所述频带断层图像的像素中,使用所述选择的频带断层图像,针对每个所述频带生成合成频带二维图像,对所述合成频带二维图像进行频率合成来生成所述合成二维图像。
12.根据权利要求11所述的图像处理装置,其中,
所述处理器被构成为:在所述多个频带断层图像中的与所述合成频带二维图像的像素对应的像素中,在选择了多个所述频带断层图像时,生成具有根据预先设定的关注结构的优先级确定的频带断层图像的像素值的所述合成频带二维图像。
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