[发明专利]图像处理装置、方法及程序在审

专利信息
申请号: 202180021255.4 申请日: 2021-02-09
公开(公告)号: CN115297778A 公开(公告)日: 2022-11-04
发明(设计)人: 小池崇文 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;A61B6/02;G06T1/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 韩香花
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 图像 处理 装置 方法 程序
【说明书】:

处理器从表示被摄体的多个断层面的多个断层图像检测关注结构。处理器在检测到关注结构的区域中,根据频带从多个断层图像中选择断层图像。处理器在检测到关注结构的区域中使用所选择的断层图像生成合成二维图像,在未检测到关注结构的区域中使用预先设定的断层图像生成合成二维图像。

技术领域

本发明涉及一种图像处理装置、方法及程序。

背景技术

近年来,为了促进乳腺癌的早期发现,使用拍摄乳房的放射线图像摄影装置(称作乳房X射线摄影装置)的图像诊断受到了关注。并且,在乳房X射线摄影装置中提出有如下层析摄影,即,移动放射线源,从多个射线源位置对乳房照射放射线来进行摄影,重构由此获取的多个投影图像来生成强调了所希望的断层面的断层图像。在层析摄影中,根据摄影装置的特性及所需的断层图像,使放射线源与放射线检测器平行地移动,或以描绘圆或椭圆的弧的方式移动,在多个射线源位置拍摄乳房,由此获取多个投影图像,利用简单反投影法或者滤波器反投影法等反投影法或逐次重构法等重构这些投影图像来生成断层图像。

通过在乳房中的多个断层面生成这样的断层图像,能够分离在乳房内沿断层面所排列的深度方向重叠的结构。因此,能够发现在通过从预先设定的方向对被摄体照射放射线的以往的简单摄影获取的二维图像(以下,称为简单二维图像)中难以检测的病变等异常部位。

并且,已知有通过相加法、平均法、最大值投影法或最小值投影法等对通过层析摄影获取的、从放射线检测器的检测面朝向放射线源侧的距离(高度方向的位置)不同的多个断层图像进行合成,从而生成相当于简单二维图像的虚拟二维图像(以下,称为合成二维图像)的技术(参考日本特开2014-128716号公报)。

另一方面,在医疗领域中,已知有自动检测图像中的异常阴影等结构物,进行检测到的结构物的强调显示等的计算机辅助图像诊断系统(CAD:Computer Aided Diagnosis、以下称为CAD)。例如,利用CAD从通过层析摄影获取的断层图像检测肿瘤、毛刺及钙化等在诊断上重要的结构物。并且,提出有如下方法,即,在从通过对乳房进行层析摄影来获取的多个断层图像生成合成二维图像时,通过CAD检测包含结构物的关注区域,将检测到的关注区域例如合成于投影图像或通过简单摄影来获取的二维图像上,由此生成合成二维图像(参考美国专利第8983156号说明书)。并且,提出有通过平均化对仅包含通过CAD检测到的结构物的断层图像进行合成,由此生成合成二维图像的方法(参考美国专利第9792703号说明书)。

发明内容

发明要解决的技术课题

然而,在通过美国专利第8983156号说明书中记载的方法生成的合成二维图像中,合成于二维图像的关注结构只有从1个断层图像获取的关注结构。因此,在关注结构跨越多个断层图像而存在时,无法在合成二维图像中反映在断层图像所排列的深度方向上存在关注结构的状态。并且,美国专利第9792703号说明书中记载的方法中,对多个断层图像中包含的关注结构进行平均化。因此,例如乳房中包含的如钙化那样的细微的关注结构及如毛刺那样的线状结构等变淡而难以观察。

本发明是鉴于上述情况而完成的,其目的在于在合成二维图像中,容易观察被摄体中包含的深度方向的关注结构及细微的关注结构。

用于解决技术课题的手段

基于本发明的图像处理装置,其具备至少1个处理器,

所述处理器构成为如下:

在检测到关注结构的区域中,根据频带从多个断层图像中选择断层图像,

在检测到关注结构的区域中使用所选择的断层图像生成合成二维图像,在未检测到关注结构的区域中使用预先设定的断层图像生成合成二维图像。

另外,在基于本发明的图像处理装置中,处理器可以构成为如下:通过对多个断层图像进行频率分解,针对多个频带的每个频带导出多个频带断层图像,

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