[发明专利]铝制的要被硬钎焊的构件和硬钎焊体的制造方法在审
申请号: | 202180025126.2 | 申请日: | 2021-03-26 |
公开(公告)号: | CN115335173A | 公开(公告)日: | 2022-11-11 |
发明(设计)人: | 中村真一;山吉知树;铃木太一;田中宏和 | 申请(专利权)人: | 株式会社UACJ |
主分类号: | B23K1/14 | 分类号: | B23K1/14;B23K1/19;B23K33/00;B23K35/22;B23K35/28;C22C21/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 铝制 要被硬 钎焊 构件 制造 方法 | ||
1.一种铝制的要被硬钎焊的构件,其特征在于,其要与由硬钎焊板形成的构件硬钎焊,所述硬钎焊板至少具有:由铝合金形成的芯材;和,由含有3.00~13.00质量%的Si和2.00质量%以下的Mg(不包括零)、且余量由铝和不可避免的杂质组成的铝合金形成的硬钎焊材料,
在该铝制的要被硬钎焊的构件的焊角形成范围的表面设有2条以上的槽,该槽的槽深度(D1)为0.005~0.50mm,该槽的槽宽度(W1)为0.005~0.50mm,该槽宽度(W1)相对于该槽深度(D1)之比(W1/D1)为10.00以下,相邻的该槽彼此的间隔(P1)为0.00~0.30mm。
2.一种铝制的要被硬钎焊的构件,其特征在于,其要与由硬钎焊板形成的构件硬钎焊,所述硬钎焊板至少具有:由铝合金形成的芯材;和,由含有3.00~13.00质量%的Si和2.00质量%以下的Mg(不包括零)、且余量由铝和不可避免的杂质组成的铝合金形成的硬钎焊材料,
在该铝制的要被硬钎焊的构件的焊角形成范围的表面设有主槽和设置于该主槽的槽底的2条以上的副槽,该副槽的槽深度(D2)为0.005~0.50mm,该副槽的槽宽度(W2)为0.005~0.40mm,该副槽的槽宽度(W2)相对于该副槽的槽深度(D2)之比(W2/D2)为10.00以下,该副槽的槽深度(D2)相对于该主槽的槽深度(D3)之比(D2/D3)为0.50以上且低于1.00。
3.根据权利要求1或2所述的铝制的要被硬钎焊的构件,其特征在于,形成所述铝制的要被硬钎焊的构件的铝合金为含有1.50质量%以下的Si、1.00质量%以下的Fe、1.20质量%以下的Cu、2.00质量%以下的Mn、3.00质量%以下的Mg、8.00质量%以下的Zn、0.30质量%以下的Cr、0.30质量%以下的Ti、0.30质量%以下的Zr、0.10质量%以下的In、0.10质量%以下的Sn、1.00质量%以下的Bi、0.05质量%以下的Na、0.05质量%以下的Sr和0.05质量%以下的Sb中的任1种或2种以上、且余量由铝和不可避免的杂质组成的铝合金。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的铝制的要被硬钎焊的构件,其特征在于,所述硬钎焊板的硬钎焊材料还含有1.00质量%以下的Bi、1.00质量%以下的Fe、1.20质量%以下的Cu、2.00质量%以下的Mn、8.00质量%以下的Zn、0.30质量%以下的Cr、0.30质量%以下的Ti、0.30质量%以下的Zr、0.10质量%以下的In、0.10质量%以下的Sn、0.05质量%以下的Na、0.05质量%以下的Sr和0.05质量%以下的Sb中的任1种或2种以上。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的铝制的要被硬钎焊的构件,其特征在于,所述硬钎焊板的芯材为含有1.50质量%以下的Si、1.00质量%以下的Fe、1.20质量%以下的Cu、2.00质量%以下的Mn、3.00质量%以下的Mg、8.00质量%以下的Zn、0.30质量%以下的Cr、0.30质量%以下的Ti、0.30质量%以下的Zr、0.10质量%以下的In、0.10质量%以下的Sn、1.00质量%以下的Bi、0.05质量%以下的Na、0.05质量%以下的Sr和0.05质量%以下的Sb中的任1种或2种以上、且余量由铝和不可避免的杂质组成的铝合金。
6.一种硬钎焊体的制造方法,其特征在于,其为将由硬钎焊板形成的构件与铝制的要被硬钎焊的构件组装后,在不使用助焊剂的情况下进行硬钎焊加热,从而制造硬钎焊体的方法,
该硬钎焊板的硬钎焊材料由含有3.00~13.00质量%的Si和2.00质量%以下的Mg(不包括零)、且余量由铝和不可避免的杂质组成的铝合金形成,芯材由铝合金形成,
在该铝制的要被硬钎焊的构件的焊角形成范围的表面设有2条以上的槽,该槽的槽深度(D1)为0.005~0.50mm,该槽的槽宽度(W1)为0.005~0.50mm,该槽宽度(W1)相对于该槽深度(D1)之比(W1/D1)为10.00以下,相邻的该槽彼此的间隔(P1)为0.00~0.30mm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社UACJ,未经株式会社UACJ许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202180025126.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。