[发明专利]覆金属层叠板

权利要求书

1.一种覆金属层叠板，其是在基材膜上依次层叠涂膜、金属膜而成的覆金属层叠板，

所述金属膜是通过镀敷、溅射和气相沉积中的至少任一种形成法形成的金属膜，

所述涂膜的表面粗糙度Rz为1μm以下。

2.根据权利要求1所述的覆金属层叠板，其中，所述涂膜及所述金属膜层叠于所述基材膜的两侧而形成所述覆金属层叠板，并以金属膜、涂膜、基材膜、涂膜、金属膜的顺序层叠而形成所述覆金属层叠板。

3.根据权利要求1或2所述的覆金属层叠板，其中，所述基材膜的表面粗糙度Rz为1μm以上且10μm以下。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述金属膜的表面粗糙度Rz为0.5μm以下。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述涂膜包含热固性树脂。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述涂膜包含环氧树脂、聚酰亚胺树脂或双马来酰亚胺树脂中的至少任一种。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述涂膜的膜厚为所述基材膜的表面粗糙度Rz×0.8以上。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述金属膜的膜厚为0.05μm以上且10μm以下。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述基材膜的相对介电常数为3.5以下、介质损耗角正切为0.004以下。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述涂膜的相对介电常数为3.5以下、介质损耗角正切为0.004以下。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述基材膜的热膨胀系数CTE为50ppm以下。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述基材膜为液晶聚合物LCP膜、聚醚醚酮PEEK膜、四氟乙烯全氟烷基PFA膜或聚苯硫醚PPS膜。

13.根据权利要求1～12中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述基材膜含有填料。

14.根据权利要求1～13中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述填料包含选自云母、滑石、氮化硼BN、氧化镁和二氧化硅中的至少任一种。

15.根据权利要求1～14中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述填料具有板状的形状。

16.根据权利要求1～15中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述填料的长宽比为5以上且500以下。

17.根据权利要求1～16中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述填料的平均粒径为20μm以下。

18.根据权利要求1～17中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述涂膜含有填料。

19.根据权利要求1～18中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述金属膜为铜的金属膜。

20.根据权利要求1～19中任一项所述的覆金属层叠板，其中，所述基材膜和/或所述涂膜的表面进行了电晕处理、等离子体处理或紫外线处理。