[发明专利]感光性元件及抗蚀图案的形成方法

权利要求书

1.一种感光性元件，其特征在于，

其依次具有支承膜(A)、感光性树脂组合物层(B)和保护膜(C)，

JIS B0601-2001中规定的、所述支承膜(A)的与所述感光性树脂组合物层(B)接触侧的表面的表面粗糙度Rz_A1(nm)、相反侧的表面的表面粗糙度Rz_A2(nm)、所述保护膜(C)的与所述感光性树脂组合物层(B)接触侧的表面的表面粗糙度Rz_C1(nm)、和相反侧的表面的表面粗糙度Rz_C2(nm)满足以下的(1)～(3)：

(1)1Rz_A1100

(2)300Rz_C1600

(3)40Rz_C2/Rz_A2。

2.根据权利要求1所述的感光性元件，其中，1Rz_A2200。

3.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，1.1Rz_A2/Rz_A17。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的感光性元件，其中，1.1Rz_C2/Rz_C110。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的感光性元件，其中，50Rz_C2/Rz_A2100。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的感光性元件，其中，所述支承膜(A)中含有的直径2μm以上且5μm以下的颗粒的个数为30个/30mm²以下。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的感光性元件，其中，所述支承膜(A)中含有的直径2μm以上且5μm以下的颗粒的个数为15个/30mm²以下。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的感光性元件，其中，所述支承膜(A)中含有的直径2μm以上且5μm以下的颗粒的个数为10个/30mm²以下。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的感光性元件，其中，所述支承膜(A)中含有的钛元素含量为1ppm以上且20ppm以下。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的感光性元件，其中，对所述支承膜(A)的至少单面实施了平滑化处理。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的感光性元件，其中，所述支承膜(A)的膜厚为5μm以上且12μm以下。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的感光性元件，其中，所述保护膜(C)的表面由聚丙烯树脂形成。

13.一种感光性元件的卷绕体，其为将权利要求1～12中任一项所述的感光性元件卷绕而成的。

14.一种抗蚀图案的形成方法，其包括：

将权利要求1～12中任一项所述的感光性元件层叠于基板的层叠工序、

对该感光性元件的感光性树脂组合物层进行曝光的曝光工序、和

将该感光性树脂组合物层的未曝光部显影去除的显影工序。

15.根据权利要求14所述的抗蚀图案的形成方法，其中，所述曝光工序通过投影曝光方法进行。