[发明专利]检查用于EUV光刻的掩模的系统与方法

权利要求书

1.一种检查用于EUV光刻的掩模的系统，包括：

1.1.第一部分系统(2)，其用于光学检查一掩模，以识别和/或定位潜在掩模缺陷，

1.2.第二部分系统(3)，用于预分类所述潜在掩模缺陷，以及

1.3.第三部分系统(4)，用于检查所述潜在掩模缺陷，

1.4.其中该第二部分系统(3)被实施使得其将一置信参数分配给由该第一部分系统(2)识别和/或定位的所述潜在掩模缺陷，用于特征化该识别的可靠性和/或用于特征化该缺陷与后续应用的相关性，以及

1.5.其中该第三部分系统(4)为可控制的，使得基于由该第二部分系统(3)分配给所述潜在掩模缺陷的所述置信参数，检查由该第一部分系统(2)识别和/或定位的所述掩模缺陷的子集。

2.如权利要求1的系统(1)，其特征在于，用于预分类所述潜在掩模缺陷的该第二部分系统(3)运用一自动图像分析方法。

3.如前述权利要求中任一项的系统(1)，其特征在于，用于预分类所述潜在掩模缺陷的该第二部分系统(3)运用机器学习。

4.如前述权利要求中任一项的系统(1)，其特征在于，该第二部分系统(3)具有用于储存含有预分类掩模缺陷的数据库的存储器。

5.如前述权利要求中任一项的系统(1)，其特征在于，该第二部分系统(3)被实施使得其将所述潜在掩模缺陷分成两个、三个或更多类别。

6.如前述权利要求中任一项的系统(1)，其特征在于，该第二部分系统(3)具有分类速度v₂并且该第三部分系统(4)具有检查速度v₃，其中以下适用：v₂＞v₃。

7.如前述权利要求中任一项的系统(1)，其特征在于，用于检查该掩模的该第一部分系统(2)利用波长大于30nm的照明辐射。

8.如前述权利要求中任一项的系统(1)，其特征在于，用于对所述潜在掩模缺陷进行预分类的该第二部分系统(3)和/或用于检查所述潜在掩模缺陷的子集的该第三部分系统(4)包括具有波长在EUV范围内的照明辐射的光学系统。

9.一种检查用于EUV光刻的掩模的方法，包括以下步骤：

9.1.提供用于EUV光刻的掩模，

9.2.第一检查步骤，用于记录提供的该掩模的图像，并且用于识别和/或定位提供的该掩模中的潜在掩模缺陷，

9.3.第二检查步骤，用于将所述潜在掩模缺陷预分类成至少两个非空白的子集，以及

9.4.第三检查步骤，用于检查在该第二检查步骤中确定的所述子集的一个中的潜在掩模缺陷，

9.5.其中用于对所述潜在掩模缺陷进行预分类的该第二检查步骤包括基于机器学习的方法。

10.如权利要求9的方法，其特征在于，为了预分类所述潜在掩模缺陷的目的，分析在该第一检查步骤中记录的该掩模的图像中一维结构和/或二维结构的分布。

11.如权利要求9或10的方法，其特征在于，为了预分类所述潜在掩模缺陷的目的，分析在该第一检查步骤中记录的该掩模的图像的密度分布。

12.如权利要求9至11中任一项的方法，其特征在于，该第二检查步骤包括比较步骤，用于将该掩模的记录的图像与数据库中的数据进行比较。

13.如权利要求9至12中任一项的方法，其特征在于，该第三检查步骤包括光化方法。

14.如权利要求9至13中任一项的方法，其特征在于，该第一检查步骤(2)包括非光化方法。