[发明专利]电光器件在审
申请号: | 202180026047.3 | 申请日: | 2021-03-31 |
公开(公告)号: | CN115413329A | 公开(公告)日: | 2022-11-29 |
发明(设计)人: | 长瀬健司;田家裕 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社 |
主分类号: | G02F1/035 | 分类号: | G02F1/035;G02F1/03 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦;黄浩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 电光 器件 | ||
1.一种电光器件,其特征在于,
具备:
基板;
设置于所述基板上的规定区域并由铌酸锂或铌酸钽形成的光波导膜;
缓冲层,与所述光波导膜邻接而形成;以及
电极,对所述光波导膜施加电场,
在所述规定区域外具备未透光的光波导膜。
2.如权利要求1所述的电光器件,其特征在于,
所述光波导膜具有直线部,在该直线部的附近具备所述未透光的光波导膜。
3.如权利要求1或2所述的电光器件,其特征在于,
所述未透光的光波导膜具有多个。
4.如权利要求2所述的电光器件,其特征在于,
所述未透光的光波导膜沿所述直线部设置。
5.如权利要求1~4中任一项所述的电光器件,其特征在于,
所述光波导膜与所述未透光的光波导膜的膜厚大致相同。
6.如权利要求1~4中任一项所述的电光器件,其特征在于,
在垂于光的传播方向的截面上,所述光波导膜介于所述未透光的光波导膜之间。
7.如权利要求1~4中任一项所述的电光器件,其特征在于,
在垂于光的传播方向的截面上,设置于所述基板上的所述未透光的光波导膜被所述缓冲层包围。
8.如权利要求1~4中任一项所述的电光器件,其特征在于,
所述光波导膜具有互相相邻的第1光波导膜和第2光波导膜,
所述未透光的光波导膜至少介于所述第1光波导膜和所述第2光波导膜之间。
9.如权利要求8所述的电光器件,其特征在于,
所述第1光波导膜和所述第2光波导膜是马赫-曾德尔光波导。
10.如权利要求1~4中任一项所述的电光器件,其特征在于,
所述未透光的光波导膜至少形成于所述光波导膜与所述基板的端部之间。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社,未经TDK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202180026047.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:滑动构件
- 下一篇:激光加工装置及激光加工方法