[发明专利]激光加工装置及激光加工方法在审
申请号: | 202180026088.2 | 申请日: | 2021-03-31 |
公开(公告)号: | CN115413364A | 公开(公告)日: | 2022-11-29 |
发明(设计)人: | 佐野育;坂本刚志;是松克洋 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | H01L21/301 | 分类号: | H01L21/301;B23K26/00;B23K26/53 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦;尹明花 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 加工 装置 方法 | ||
一种激光加工装置,其中,具备控制部,控制部执行下述处理:第一处理,以第一加工条件来控制激光照射单元,该第一加工条件被设定为:在晶圆的内部形成改质区域和改质区域;第二处理,确定有关改质区域的状态,并判断第一加工条件是否适当;第三处理,以第二加工条件来控制激光照射单元,该第二加工条件被设定为:在晶圆的内部形成改质区域,并且在晶圆的厚度方向上的改质区域之间形成改质区域;以及,第四处理,确定有关改质区域的状态,并判断第二加工条件是否适当。
技术领域
本发明的一方面方面涉及一种激光加工装置及激光加工方法。
背景技术
已知有一种激光加工装置,其为了沿多条线分别切断具备半导体基板和已形成于半导体基板的一表面上的功能元件层的晶圆(wafer),从半导体基板的另一表面侧对晶圆照射激光,由此沿多条线分别在半导体基板的内部形成多列的改质区域。专利文献1所记载的激光加工装置具备红外线照相机,能够从半导体基板的背面侧观察在半导体基板的内部所形成的改质区域、功能元件层上所形成的加工损伤等。
[现有技术文献]
[专利文献]
专利文献1:日本特开2017-64746号公报
发明内容
[发明所要解决的技术问题]
在如上所述的激光加工装置中,有时通过一边形成多个激光的聚光点且一边形成加工层,来谋求加工层的形成速度的提高。另一方面,据本发明人等的知识见解所知,当在对象物的厚度方向上同时形成多个聚光点并照射激光时,从一方的聚光点上所形成的改质区域延伸的龟裂,会使另一方的聚光点上的改质区域的形成及该龟裂的进展受到影响,其结果,会有龟裂量(龟裂的长度)变得不稳定的问题。该问题即便是在不同时形成多个聚光点的情况(1个焦点的情况)中仍可能发生。即,例如,在以1个焦点,在最初形成离入射面较远侧的改质区域之后,形成离入射面较近侧的改质区域的情况下,由于离入射面较近侧的改质区域是在离入射面较远侧的龟裂未充分延伸的状态下被加工,所以会有总龟裂量变得不稳定的问题。在龟裂量已变得不稳定的情况下,以龟裂为边界而切断对象物时的切断面的质量(即加工品质)会降低。
为了抑制龟裂量变得不稳定,例如可以考虑如下方法:先行形成以龟裂彼此不连接的程度而使其充分地分开的多个改质区域之后,在该多个改质区域之间(晶圆的厚度方向上的之间)形成改质区域,最终形成横跨全部的改质区域的龟裂,由此,避免从同时形成的改质区域(或是在以1个焦点连续地形成的多个改质区域)延伸的龟裂彼此相互连接。如此,对于在形成外侧的改质区域之后形成内侧的改质区域的加工方法而言,其加工方法是复杂的,并难以设定适当的加工条件。在未能适当地设定加工条件的情况下,存在无法充分地确保已被加工过的晶圆的品质的问题。
本发明的一方面是鉴于上述实际情况而开发的,其目的在于提供一种激光加工装置及激光加工方法,其在晶圆的厚度方向上形成外侧的改质区域及内侧的改质区域的情况下,能够确保晶圆的品质。
[解决技术问题的技术手段]
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浜松光子学株式会社,未经浜松光子学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202180026088.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造