[发明专利]差动排气装置及聚焦能量束装置

说明书

差动排气装置将处理用空间设为高真空度，其中，所述差动排气装置具备：位移驱动部，其能够使头部或被处理基板进行位移来调整被处理面与所述头部的对置面的平行度及距离；间隙测定部，其沿着所述头部的所述对置面的周缘分别配置在至少三个部位以上，能够检测所述对置面与所述被处理面之间的距离；以及间隙控制部，其基于所述间隙测定部检测出的所述对置面与所述被处理面之间的距离信息来控制所述位移驱动部，以使得所述对置面与所述被处理面隔开规定的距离而成为平行。

技术领域

本发明涉及差动排气装置及聚焦能量束装置。

背景技术

聚焦能量束装置被适用为聚焦离子束装置、电子束曝光装置、扫描电子显微镜(SEM:Scanning Electron Microscope)等。聚焦离子束装置是如下的装置：使聚焦了的离子束在试样表面扫描，检测从试样放射出的二次粒子(二次电子、二次离子等)，由此能够观察显微镜图像、加工试样表面。具体而言，聚焦离子束装置具有进行试样观察、蚀刻(溅射)、CVD(化学气相沉积)的功能等。

聚焦离子束装置被适用为图15所示那样的修复装置100。该修复装置100构成为，聚焦离子束光学系统101、供给CVD(Chemical Vapor Deposition)用气体的供给喷嘴102、二次粒子检测部103以及载置被修正基板104的基板支承盘105配置在真空腔室106内。在修复装置100中，利用二次粒子检测部103来检测通过向基板表面照射离子束而从被修正基板放射出的二次电子或者二次离子，求解二维分布，由此能够制成基板表面的显微镜图像。

在该修复装置100中，基于来自上述的显微镜图像的信息来向被修正基板表面的必主要部分位照射离子束，由此能够进行加工、观察。另外，通过同时从供给喷嘴102供给CVD用气体，由此能够进行局部的成膜来进行加工、修正。在真空腔室106内为低真空的情况下，残留气体分子与离子会发生碰撞而使得离子无法直线行进，因此需要将真空腔室106内设为高真空。

近年来，在液晶显示器(LCD:Liquid Crystal Display)、有机EL显示器等薄型显示器(FPD：Flat Panel Display)中，面板尺寸的大型化不断进展。因此，在上述那样的修复装置中，存在需要大型的真空腔室这样的问题。

作为解决上述的问题的现有技术，公开了具备在被修正基板的表面局部地形成真空空间的局部排气装置(以下，也称为差动排气装置)而不需要真空腔室的加工装置(例如参照专利文献1)。该加工装置在聚焦离子束镜筒的前端部(下端部)一体地设置有局部排气装置，该局部排气装置具备使聚焦离子束镜筒相对于被修正基板浮起的功能。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第5114960号公报

发明内容

本发明要解决的问题

在FPD的制造中，使用尺寸上包括多个面板的基样玻璃(mother glass)。增加每一片基样玻璃上的面板配置数(排版数)是常规化的用于提高生产率的方法。伴随着基样玻璃的大型化，光掩模也必然会大型化。顺带说一下，近年来，基样玻璃的一边达到约3m左右的长度。因此，在光掩模中，伴随着该大型化而产生起伏、翘曲。