[发明专利]用于重叠的测量模式

权利要求书

1.一种重叠度量工具，其包括：

照射源；

一或多个照射光学器件，其经配置以使来自所述照射源的一或多个照射束照射样本上的重叠目标，其中所述重叠目标包含沿着一或多个测量方向的周期性特征；

一或多个聚集光学器件，其用以将衍射光从所述重叠目标的所述周期性特征引导到检测器；

可调整光瞳掩模，其位于光瞳面处，其中所述光瞳面对应于聚集光瞳面，其中所述可调整光瞳掩模包含跨越所述光瞳面的一或多个部分分布的一或多个控制区带，其中所述一或多个控制区带能够个别寻址以提供可调整光瞳透射率分布，其中所述可调整光瞳透射率分布提供对衍射光在所述光瞳面的相应所述一或多个部分中穿行到所述检测器的选择性控制；及

控制器，其通信耦合到所述可调整光瞳掩模，所述控制器包含一或多个处理器，所述一或多个处理器经配置以执行程序指令从而使得所述一或多个处理器：

引导所述可调整光瞳掩模以提供与选定重叠度量方案对应的选定光瞳透射率分布，其中所述选定光瞳透射率分布对应于提供一组选定衍射级从所述目标到所述检测器的透射的所述一或多个控制区带的选定配置；且

基于来自所述检测器的测量数据确定沿着所述一或多个测量方向的重叠测量。

2.根据权利要求1所述的重叠度量工具，其进一步包括：

物镜，其中所述一或多个照射光学器件使所述一或多个照射束穿过所述物镜而照射所述重叠目标，其中所述一或多个聚集光学器件将由所述物镜聚集的所述衍射光引导到所述检测器，其中包含所述可调整光瞳掩模的所述光瞳面进一步对应于照射光瞳面。

3.根据权利要求2所述的重叠度量工具，其中所述一或多个控制区带能够个别寻址以使所述一或多个照射束中的一者中的选定数目个照射束照射所述重叠目标，其中所述一或多个控制区带中的至少一些控制区带放置于所述光瞳面的与所述一或多个照射束对应的部分中以在所述样本上提供对所述一或多个照射束的选择性控制。

4.根据权利要求2所述的重叠度量工具，其中所述照射源包括沿着所述光瞳面中的两个正交方向提供对称照射束的四极照射源，其中所述一或多个控制区带包含经布置以在所述光瞳面中形成环形的两个控制区带，其中所述两个控制区带中的每一者对应于所述环形的一半，其中所述两个控制区带中的每一者经定向以使来自所述一或多个照射束中的两个正交照射束的光通过，响应于来自所述两个正交照射束的所述光而使来自所述样本的光的一或多个非零衍射级通过，且响应于来自所述两个正交照射束的所述光而对来自所述样本的零级衍射进行阻挡或光学衰减中的至少一者。

5.根据权利要求4所述的重叠度量工具，其中所述两个控制区带的透射率能够依序交替以利用相对照射束提供对所述重叠目标的依序测量。

6.根据权利要求2所述的重叠度量工具，其中所述一或多个照射光学器件包含输出端安置于所述光瞳面处的一或多个光纤。

7.根据权利要求2所述的重叠度量工具，其中所述光瞳面对应于所述物镜的内部光瞳面。

8.根据权利要求2所述的重叠度量工具，其中所述光瞳面对应于与所述物镜的内部光瞳面共轭的中继平面。

9.根据权利要求1所述的重叠度量工具，其中所述一或多个照射束中的一者经布置而以法向入射照射所述重叠目标，其中所述一或多个控制区带包含处于所述光瞳面中心的圆形控制区带，其中所述圆形控制区带经定向以响应于来自呈法向入射的所述照射束的所述光而使来自所述样本的光的一或多个非零衍射级通过，且对来自呈法向入射的所述照射束的零级衍射进行阻挡或光学衰减中的至少一者。

10.根据权利要求1所述的重叠度量工具，其中所述一或多个控制区带包含环形控制区带，其中所述环形控制区带经定向以响应于来自所述一或多个照射束中的每一者的所述光而使来自所述样本的光的一或多个非零衍射级通过，且响应于来自所述一或多个照射束中的每一者的所述光而对来自所述样本的零级衍射进行阻挡或光学衰减中的至少一者。