[发明专利]用于重叠的测量模式

说明书

一种重叠度量工具可包含：照射源；照射光学器件，其用以使一或多个照射束照射具有周期性特征的重叠目标；聚集光学器件，其用以将衍射光从所述重叠目标的所述周期性特征引导到检测器；可调整光瞳掩模，其位于光瞳面处；及控制器。所述可调整光瞳掩模可包含一或多个可个别寻址控制区带，所述一或多个可个别寻址控制区带跨越所述光瞳面的一或多个部分分布以提供可调整光瞳透射率分布。所述控制器可引导所述可调整光瞳掩模以提供与选定重叠度量方案对应的选定光瞳透射率分布，其中所述选定光瞳透射率分布对应于提供一组选定衍射级从所述目标到所述检测器的透射的所述一或多个控制区带的选定配置。

相关申请案的交叉参考

本申请案基于35 U.S.C.§119(e)主张2020年5月22日提出申请的标题为“用于重叠的测量模式(MEASUREMENT MODES FOR OVERLAY)”且发明人为阿姆农·马纳森(AmnonManassen)、安迪·希尔(Andy Hill)及吉拉德·拉雷多(Gilad Laredo)的美国临时申请案第63/028,568号的权益，所述美国临时申请案全文以引用方式并入本文中。

技术领域

本公开大体来说涉及重叠度量，且更确切来说涉及在利用可调整光瞳掩模的多种重叠测量技术之间转换的系统及方法。

背景技术

重叠度量系统通常通过测量位于所关注层上的重叠目标特征的相对位置来表征样本的多个层的重叠对准。随着所制作特征的大小减小且特征密度增大，对表征这些特征所需的重叠度量系统的要求提高。不同重叠度量技术可提供在准确性、可重复性或吞吐量之间的不同折衷。因此，对样本的各个部分或在批次中的不同样本之间利用不同重叠度量技术可为有利的。然而，不同重叠度量技术可在测量期间需要光照射及来自样本的光聚集的不同规格。因此，可期望提供用单个重叠度量工具使用不同重叠技术来测量重叠的系统及方法且进一步提供不同重叠技术之间的高效切换。

发明内容

根据本公开的一或多个说明性实施例揭示一种重叠度量工具。在一个说明性实施例中，所述重叠度量工具包含照射源。在另一说明性实施例中，所述重叠度量工具包含经配置以使来自照射源的一或多个照射束照射重叠目标的一或多个照射光学器件，其中所述重叠目标包含沿着一或多个测量方向的周期性特征。在另一说明性实施例中，所述重叠度量工具包含将衍射光从所述重叠目标的所述周期性特征引导到检测器的一或多个聚集光学器件。在另一说明性实施例中，所述重叠度量工具包含位于光瞳面处的可调整光瞳掩模，其中所述光瞳面对应于聚集光瞳面。在另一说明性实施例中，所述可调整光瞳掩模包含跨越所述光瞳面的所述一或多个部分分布的一或多个控制区带，其中所述一或多个控制区带可个别寻址以提供可调整光瞳透射率分布，且其中所述可调整光瞳透射率分布提供对衍射光在所述光瞳面的相应所述一或多个部分中穿行到所述检测器的选择性控制。在另一说明性实施例中，所述重叠度量工具包含通信耦合到所述可调整光瞳掩模的控制器。在另一说明性实施例中，所述控制器可引导所述可调整光瞳掩模以提供与选定重叠度量方案对应的选定光瞳透射率分布，其中所述选定光瞳透射率分布对应于提供一组选定衍射级从所述目标到所述检测器的透射的所述一或多个控制区带的选定配置。在另一说明性实施例中，所述控制器可基于来自所述检测器的测量数据确定沿着所述一或多个测量方向的重叠测量。