[发明专利]导电性颗粒的制造方法和导电性颗粒在审
申请号: | 202180036693.8 | 申请日: | 2021-05-18 |
公开(公告)号: | CN115667579A | 公开(公告)日: | 2023-01-31 |
发明(设计)人: | 松本千纮;高桥哲;久持昭纮;稻叶裕之 | 申请(专利权)人: | 日本化学工业株式会社 |
主分类号: | C23C18/31 | 分类号: | C23C18/31;B22F1/17;B22F1/18;C23C18/16;C23C18/36;H01B1/00;H01B1/02;H01B1/22;H01B5/00;H01B13/00;H01R11/01 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;张岑尧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 导电性 颗粒 制造 方法 | ||
1.一种导电性颗粒的制造方法,其特征在于:
包括对芯材颗粒的表面具有导电层的导电性颗粒在1000Pa以下的真空下、以温度200~600℃进行加热的工序。
2.如权利要求1所述的导电性颗粒的制造方法,其特征在于:
加热时间为0.1~10小时。
3.如权利要求1或2所述的导电性颗粒的制造方法,其特征在于:
从室温至加热温度的升温速度为0.1~50℃/分钟。
4.如权利要求1~3中任一项所述的导电性颗粒的制造方法,其特征在于:
加热后的降温速度为0.02~50℃/分钟。
5.如权利要求1~4中任一项所述的导电性颗粒的制造方法,其特征在于:
将所述导电性颗粒以0.1~100mm的厚度静置并加热。
6.如权利要求1~5中任一项所述的导电性颗粒的制造方法,其特征在于:
所述芯材颗粒由包含无机物、有机物或无机物和有机物双方的材质构成。
7.如权利要求1~6中任一项所述的导电性颗粒的制造方法,其特征在于:
所述导电层为选自镍、金、镍合金和金合金中的至少1种。
8.如权利要求1~7中任一项所述的导电性颗粒的制造方法,其特征在于:
利用无电解镀敷法在所述芯材颗粒的表面形成所述导电层,对所得到的导电性颗粒进行加热。
9.一种导电性颗粒,其特征在于:
在芯材颗粒的表面形成导电层而成的导电性颗粒中,压缩率为30%时的平均一个该导电性颗粒的耐受电流值为200mA以上。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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