[发明专利]真空泵

说明书

本发明提供一种真空泵，其能够在不进行翻修的情况下除去堆积物，进而能够检测堆积物的除去已完成。本发明具备清洁功能部和堆积传感器(206)，前述清洁功能部用于清洁真空泵(100)内的堆积物的清洁功能，前述堆积传感器(206)用于检测堆积物的堆积检测功能。进而，具备用于判定清洁的完成的清洁完成判定功能的读取回路部(207)、清洁完成判定回路部(208)，基于堆积传感器(206)的检测结果，清洁完成判定回路部(208)输出表示清洁的完成的清洁完成信号。

技术领域

本发明涉及例如涡轮分子泵等真空泵。

背景技术

一般地，作为真空泵的一种已知涡轮分子泵。在该涡轮分子泵中，通过向泵主体内的马达通电使旋转翼旋转，将吸入泵主体的气体(工艺气体)的气体分子弹飞，由此排出气体。此外，在这样的涡轮分子泵中，有为了适当管理泵内的温度而具备加热器、冷却管的类型的涡轮分子泵。

专利文献1：日本特开2011-80407号公报。

但是，上述的涡轮分子泵这样的真空泵中，有被移送的气体内的物质析出的情况。例如，用于半导体制造装置的蚀刻工艺的气体在将吸入泵主体的气体(工艺气体)压缩而逐渐提高压力的过程中，由于排气流路的温度低于升华温度的条件，使副反应产物析出至真空泵、配管内部，有堵塞排气流路的情况。此外，在将从泵的吸气口抽吸的气体在泵内部压缩的过程中，有抽吸的气体超过从气体向固体相变的压力而在泵内部相变为固体的情况。结果，有如下情况：作为副反应产物的固体在泵内部堆积，由于该堆积物而产生不良情况。并且，为了除去析出的副反应产物，需要清扫真空泵、配管。此外，根据状况，也有进行真空泵、配管的修理、向新品的更换的必要。并且，有为了这些翻修的作业而使半导体制造装置暂时停止的情况。进而，翻修的期间根据状况也有持续数周以上的情况。

此外，以往的真空泵中，为了防止副反应产物附着于内部，有具备在作为通常动作的排气动作中借助加热器提高内部的排气路径的温度的功能的真空泵(专利文献1)。专利文献1所公开的发明中，将泵的排气流路中的下游侧加热，提高已吸入的气体的升华压力，成为气相区域，由此，防止副反应产物在泵内部堆积而排气流路闭塞。这样的加热时，在真空泵的结构零件处发生由于热引起的膨胀、变形等，为了避免零件彼此接触，对其上升温度(加热的目标温度)设置限制，为使温度不上升至设定值以上而进行温度管理。并且，为了在泵能够无不良情况地使用的允许温度内进行温度管理、且能够加热至能够防止副反应产物的析出的温度，想出各种各样的设计。但是，根据副反应产物的种类，有难以在能够完全防止析出的温度条件下使真空泵工作的情况。并且，结果，副反应产物析出，使半导体制造装置停止来进行真空泵的清扫、修理等。

这样，关于泵的温度管理方法想出各种各样的设计，另一方面，关于高效率地进行真空泵的清扫、修理等的方法几乎没有关注。本发明的目的在于提供一种真空泵，其能够在不进行翻修的情况下除去堆积物，进而能够检测堆积物的除去已完成。

发明内容

(1)为了实现上述目的，本发明是一种真空泵，前述真空泵使旋转翼旋转来进行气体的排出，其特征在于，具备清洁功能部和堆积检测功能部，前述清洁功能部用于清洁前述真空泵内的堆积物的清洁功能，前述堆积检测功能部用于检测前述堆积物的堆积检测功能。

(2)此外，为了实现上述目的，其他本发明为(1)所述的真空泵，其特征在于，具备清洁完成判定功能部，前述清洁完成判定功能部用于判定前述清洁的完成的清洁完成判定功能，基于前述堆积检测功能部的检测结果，前述清洁完成判定功能部输出表示前述清洁的完成的清洁完成信号。

(3)此外，为了实现上述目的，其他本发明为(2)所述的真空泵，其特征在于，前述清洁完成判定功能部基于前述堆积检测功能部的检测结果和能够改变的阈值进行前述清洁的完成的判定。

(4)此外，为了实现上述目的，其他本发明为(1)至(3)的任一项所述的真空泵，其特征在于，前述堆积检测功能部具备投光部和受光部，前述投光部被朝向排出气体的流路地配置，前述受光部隔着前述流路与前述投光部相向，接受从前述投光部投射的检测光。