[发明专利]用于腔室排气清洁的清洁单元在审
申请号: | 202180039930.6 | 申请日: | 2021-05-14 |
公开(公告)号: | CN115699246A | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
发明(设计)人: | 凯尔文·陈;菲利普·艾伦·克劳斯;蔡泰正;哈恩·阮;阿纳塔·苏比玛尼 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 排气 清洁 单元 | ||
本文揭露的实施例包括一种用于腔室的排气管线的清洁模块。在一实施例中,移动清洁模块包括:腔室,其中所述腔室包括第一开口及第二开口。在一实施例中,清洁模块进一步包括盖,所述盖密封所述第一开口。在一实施例中,所述盖包括:介电板;介质谐振器,所述介质谐振器耦接至所述介电板;单极天线,所述单极天线安置于进入所述介质谐振器中的孔中;及导电层,所述导电层环绕所述介质谐振器。
相关申请的交叉引用
本申请要求享有于2020年6月10日递交的美国非临时申请第16/898,244号的优先权,在此通过引用将该美国非临时申请的整体内容并入本文。
技术领域
实施例涉及真空腔室,且更特定地涉及用于腔室排气的清洁单元。
背景技术
在半导体制造中,腔室处理可在排气管线中产生不需要的沉积物。不需要的沉积物可随着时间累积并对工具性能产生负面影响。例如,该累积物可使排气管线传导性降低及/或沿着排气管线的部件发生故障。排气管线中的节流阀特别容易受到这些累积物的影响。
目前没有用于从节流阀或排气管线的其他部件清洁沉积物的解决方案。目前唯一可用的补救措施是更换节流阀。更换节流阀需要处理工具的大量停机时间,因此维护成本高。
发明内容
本文揭露的实施例包括一种用于腔室的排气管线的清洁模块。在一实施例中,移动清洁模块包括:腔室,其中该腔室包括第一开口及第二开口。在一实施例中,清洁模块进一步包括盖,该盖密封该第一开口。在一实施例中,该盖包括:介电板;介质谐振器,该介质谐振器耦接至该介电板;单极天线,该单极天线安置于进入该介质谐振器中的孔中;及导电层,该导电层环绕该介质谐振器。
本文揭露的额外实施例包括一种用于腔室的排气管线的移动清洁组件。在一实施例中,移动清洁组件包括:推车(cart);及固态电子装置模块,该固态电子装置模块在该推车上,其中该固态电子装置模块被配置为产生微波电磁辐射。在一实施例中,该组件进一步包括:处理器,该处理器在该推车上且电耦接至该固态电子装置模块;及等离子体清洁模块。在一实施例中,该等离子体清洁模块电耦接至该固态电子装置模块。
本文揭露的额外实施例包括一种在排气管线上具有清洁模块的处理工具。在一实施例中,处理工具包括:第一腔室,该第一腔室具有用于支撑基板的基座;及排气管线,该排气管线流体耦接至该第一腔室。在一实施例中,该排气管线包括:泵;主要排气管线,该主要排气管线在该第一腔室与该泵之间;节流阀,该节流阀位于该主要排气管线中;及清洁管线,该清洁管线流体耦接至该主要排气管线。在一实施例中,第二腔室流体耦接至该清洁管线,且提供等离子体源以用于在该第二腔室中产生等离子体。
以上概述不包括所有实施例的详尽列表。可预期的是,所有系统和方法都被包括在内,可从上面概括的各种实施例以及下方的实施方式中所揭露及在与本申请案一起提交的权利要求中特别指出的实施例的所有合适的组合来实践这些系统和方法。这些组合具有以上概述中未特定叙述的特定优点。
附图说明
图1A是根据一实施例的包括耦接到排气装置的等离子体清洁模块的处理工具的截面图。
图1B是根据一实施例的处理工具的截面图,该处理工具包括模块化微波等离子体源和耦接到排气装置的等离子体清洁模块。
图2是根据一实施例的用于产生微波电磁辐射的固态电子装置的方块图。
图3A是根据一实施例的等离子体清洁模块的截面图。
图3B是根据一实施例的等离子体清洁模块的截面图,该等离子体清洁模块具有作为整体结构的介电板和介质谐振器。
图3C是根据一实施例的具有环绕介质谐振器的导电层的等离子体清洁模块的截面图,该导电层包括多个层。
图3D是根据一实施例的具有多个介质谐振器的等离子体清洁模块的截面图。
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