[发明专利]光调制装置

权利要求书

1.一种光调制装置，包括：

第一基底和第二基底；

光调制层；以及

延迟膜，

其中所述第一基底和所述第二基底各自具有第一表面和第二表面，

其中所述第一基底和所述第二基底彼此相对地设置；

其中所述光调制层在所述第一基底与所述第二基底之间；

其中所述延迟膜形成在所述第一基底或所述第二基底的第二表面上，以及

其中所述延迟膜对于波长为550nm的光的面内相位差在100nm至300nm的范围内。

2.根据权利要求1所述的光调制装置，其中所述延迟膜满足以下公式1或公式2：

[公式1]

nxny≈nz

[公式2]

nx≈nzny

其中，nx为所述延迟膜对于波长为550nm的光在慢轴方向上的折射率，ny为所述延迟膜对于波长为550nm的光在快轴方向上的折射率，以及nz为所述延迟膜在厚度方向上的折射率。

3.根据权利要求1所述的光调制装置，还包括在所述光调制层与所述第一基底之间或所述光调制层与所述第二基底之间的位置中的至少一者中的满足以下公式3的光学各向异性层：

[公式3]

nzny≈nx

其中，nx为所述光学各向异性层对于波长为550nm的光在慢轴方向上的折射率，ny为所述光学各向异性层对于波长为550nm的光在快轴方向上的折射率，以及nz为所述光学各向异性层在厚度方向上的折射率。

4.根据权利要求1所述的光调制装置，其中在所述第一基底的第一表面上形成粘合剂层或压敏粘合剂层，在所述第二基底的第一表面上形成液晶配向膜，以及所述第一基底和所述第二基底被设置成使得所述第一基底和所述第二基底的第一表面彼此面对。

5.根据权利要求1所述的光调制装置，还包括形成在所述第一基底的第二表面和所述第二基底的第二表面中的至少一者上的偏光层。

6.根据权利要求4所述的光调制装置，其中所述粘合剂层或所述压敏粘合剂层为有机硅粘合剂层或有机硅压敏粘合剂层。

7.根据权利要求4所述的光调制装置，其中在所述第一基底上不形成液晶配向膜。

8.根据权利要求4所述的光调制装置，其中所述液晶配向膜为垂直配向膜。

9.根据权利要求5所述的光调制装置，其中第一偏光层和第二偏光层的吸收轴彼此垂直。

10.根据权利要求5所述的光调制装置，其中所述延迟膜的慢轴和与所述延迟膜相邻的所述偏光层的吸收轴彼此垂直。

11.根据权利要求1所述的光调制装置，其中所述第一基底和所述第二基底的慢轴彼此水平。

12.根据权利要求1所述的光调制装置，其中所述延迟膜的慢轴与所述第一基底和所述第二基底的慢轴彼此垂直。

13.根据权利要求4所述的光调制装置，其中所述液晶配向膜的取向方向与所述第一基底和所述第二基底的慢轴彼此水平或垂直。

14.根据权利要求1所述的光调制装置，其中所述第一基底和所述第二基底对于波长为550nm的光的面内相位差各自为500nm或更大。

15.根据权利要求1所述的光调制装置，其中所述第一基底与所述第二基底之间的距离通过分隔壁形状的间隔件来保持。

16.根据权利要求1所述的光调制装置，其中所述光调制层包含液晶化合物。