[发明专利]光调制装置在审
申请号: | 202180041664.0 | 申请日: | 2021-07-22 |
公开(公告)号: | CN115997161A | 公开(公告)日: | 2023-04-21 |
发明(设计)人: | 金旼俊;瑟极·巴利耶;吴东炫;柳正善;金真弘;金正云;徐汉珉 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | G02F1/13363 | 分类号: | G02F1/13363 |
代理公司: | 北京市集佳律师事务所 16095 | 代理人: | 高世豪 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调制 装置 | ||
本申请涉及光调制装置。本申请可以提供这样的光调制装置:其具有优异的光学特性例如透射率可变性和机械特性,并且控制黑色模式下在所有方向上的光泄露,并因此可以用于各种应用。所述光调制装置包括在第一基底与第二基底之间的光调制层,并且包括形成在第一基底或第二基底的表面上并且对于波长为550nm的光的面内延迟在100nm至300nm的范围内的相位延迟器膜。
技术领域
本申请要求基于于2020年7月24日提交的韩国专利申请第10-2020-0092376号的优先权,其公开内容通过引用整体并入本文。
本申请涉及光调制装置。
背景技术
光调制装置为能够在至少两种或更多种不同状态之间切换的装置。关于这样的光调制装置,近来应用聚合物膜基材以相对容易地实现柔性元件和应用辊对辊过程等。
此时,当使用各向同性的膜基材作为聚合物膜时,存在诸如弱的机械强度、出现裂纹或者由于热而出现收缩等的问题。
发明内容
技术问题
然而,其中引入有各向异性的膜基材的光调制装置具有装置的驱动性能由于膜基材的相位差而降低的问题。例如,存在诸如在黑色模式下光泄露至光调制装置的侧面的问题。
因此,本申请的一个目的是提供这样的光调制装置:在具有优异的光学特性例如透射率可变特性和机械特性等的同时,通过控制黑色模式下的全向光泄露而适用于各种应用。
技术方案
本文所限定的角度应当考虑到误差例如制造误差或变化来理解。例如,在本说明书中,术语垂直、水平、正交、平行或角度数值等意指在不损害所述目的和效果的范围内的基本上垂直、水平、正交、平行或角度数值,并且例如,每种情况可以包括约±15度内的误差、约±14度内的误差、约±13度内的误差、约±12度内的误差、约±11度内的误差、约±10度内的误差、约±9度内的误差、约±8度内的误差、约±7度内的误差、约±6度内的误差、约±5度内的误差、约±4度内的误差、约±3度内的误差、约±2度内的误差、约±1度内的误差、或者约±0.5度内的误差。
除非另有说明,否则在本说明书中提及的物理特性中,当测量温度影响相关的物理特性时,所述物理特性为在室温下测量的物理特性。
在本说明书中,术语室温为在没有特别地加热或降低的自然状态下的温度,其可以意指在约10℃至30℃的范围内的任一温度,例如,约15℃或更大、18℃或更大、20℃或更大、或者约23℃或更大并且约27℃或更小的温度。此外,除非另有说明,否则本说明书中提及的温度的单位为℃。
在本说明书中,面内相位差(Rin)可以意指通过以下公式4计算的值,以及厚度方向相位差(Rth)可以意指通过以下公式5计算的值。
[公式4]
Rin=d×(nx-ny)
[公式5]
Rth=d×(nz-ny)
在公式4和公式5中,Rin可以为面内相位差,Rth可以为厚度方向相位差,d可以为层的厚度,nx可以为层在慢轴方向上的折射率,ny可以为作为层在快轴方向上的折射率的在与慢轴方向正交的面内方向上的折射率,以及nz可以为层在厚度方向上的折射率。
在此,术语层为面内相位差和/或厚度方向相位差的测量对象的层。层可以为例如偏光层、聚合物膜、延迟膜、光学各向异性层、或光调制层。
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