[发明专利]真空排气系统的清洗装置在审
申请号: | 202180045029.X | 申请日: | 2021-07-30 |
公开(公告)号: | CN115917147A | 公开(公告)日: | 2023-04-04 |
发明(设计)人: | 桦泽刚志 | 申请(专利权)人: | 埃地沃兹日本有限公司 |
主分类号: | F04B37/16 | 分类号: | F04B37/16;F04D19/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李婷;吴强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 排气 系统 清洗 装置 | ||
1.一种真空排气系统的清洗装置,
所述真空排气系统具有:
冷却阱,能够冷却含有升华成分的气体而令堆积物产生;
至少一个的第一真空泵,配置在前述冷却阱的上游;
至少一个的第一排气路径,连接前述第一真空泵和前述冷却阱;
至少一个的第二真空泵,配置在前述冷却阱的下游;以及
至少一个的第二排气路径,连接前述第二真空泵和前述冷却阱,
将前述气体排气,
所述真空排气系统的清洗装置的特征在于,
至少将前述第一真空泵或者前述第一排气路径的一部分加热到前述升华成分的升华温度以上,并且将前述冷却阱冷却到前述升华成分的升华温度以下。
2.根据权利要求1所述真空排气系统的清洗装置,其特征在于,
具备:配设在前述第一排气路径的至少一个的切换阀、连接前述切换阀和前述第二排气路径的至少一个的第三排气路径。
3.根据权利要求1或2所述真空排气系统的清洗装置,其特征在于,
前述冷却阱具备:
具有吸气口和排气口的壳体、
配设在前述壳体内的至少一个的板状部、
冷却前述板状部的冷却机构。
4.根据权利要求3所述真空排气系统的清洗装置,其特征在于,
将设置有至少一个的开口部的前述板状部改变前述开口部的相位而层叠多个而构成前述冷却阱。
5.根据权利要求3或4所述真空排气系统的清洗装置,其特征在于,
前述冷却阱具备:设置在前述壳体内的旋转轴、固定于前述旋转轴的至少一个的刮出部,前述刮出部构成为能够沿着前述板状部的板面旋转。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述真空排气系统的清洗装置,其特征在于,
具备:配设在前述第二排气路径的分支路径、配设在前述分支路径的开闭阀、配设在前述开闭阀的下游的堆积物回收容器。
7.根据权利要求3至5中任意一项所述真空排气系统的清洗装置,其特征在于,
具备:设置于前述冷却阱的前述壳体的堆积物排出口、配设在前述堆积物排出口的下游的开闭阀、配设在前述开闭阀的下游的堆积物回收容器。
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