[发明专利]覆铜层叠板及印刷电路板在审
申请号: | 202180045546.7 | 申请日: | 2021-07-14 |
公开(公告)号: | CN115997048A | 公开(公告)日: | 2023-04-21 |
发明(设计)人: | 中岛大辅;川口彰太 | 申请(专利权)人: | 三井金属矿业株式会社 |
主分类号: | C25D7/06 | 分类号: | C25D7/06 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 层叠 印刷 电路板 | ||
1.一种覆铜层叠板,其包含:
表面处理铜箔,其具备铜箔和在该铜箔的至少一面设置的含锌层;以及
片状的氟树脂,其设置在所述表面处理铜箔的所述含锌层侧,
所述含锌层由Zn和熔点为1200℃以上的过渡元素M构成,
利用辉光放电发射光谱分析法(GD-OES)对所述铜箔与所述含锌层的界面进行元素分析时,Zn的发光强度IZn相对于Cu的发光强度ICu的比即发光强度比IZn/ICu为3.0×10-3以下,并且Zn的发光强度IZn相对于所述过渡元素M的发光强度IM的比即发光强度比IZn/IM为0.30以上且0.50以下。
2.根据权利要求1所述的覆铜层叠板,其中,所述过渡元素M为选自由Co、Fe、Ni、Mo和W组成的组中的至少一种。
3.根据权利要求1或2所述的覆铜层叠板,其中,所述过渡元素M为Ni和/或Mo。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的覆铜层叠板,其中,所述发光强度比IZn/ICu为1.5×10-3以上且3.0×10-3以下。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的覆铜层叠板,其中,所述发光强度比IZn/IM为0.30以上且0.45以下。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的覆铜层叠板,其中,所述发光强度比IZn/IM为0.35以上且0.45以下。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的覆铜层叠板,其中,所述氟树脂为选自由聚四氟乙烯、四氟乙烯/全氟烷基乙烯基醚共聚物、四氟乙烯/六氟丙烯共聚物和四氟乙烯-乙烯共聚物组成的组中的至少一种。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的覆铜层叠板,其中,所述铜箔的所述含锌层侧的表面为粗糙化处理面。
9.一种印刷电路板,其使用权利要求1~8中任一项所述的覆铜层叠板制造。
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