[发明专利]覆铜层叠板及印刷电路板在审

专利信息
申请号: 202180045546.7 申请日: 2021-07-14
公开(公告)号: CN115997048A 公开(公告)日: 2023-04-21
发明(设计)人: 中岛大辅;川口彰太 申请(专利权)人: 三井金属矿业株式会社
主分类号: C25D7/06 分类号: C25D7/06
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 层叠 印刷 电路板
【权利要求书】:

1.一种覆铜层叠板,其包含:

表面处理铜箔,其具备铜箔和在该铜箔的至少一面设置的含锌层;以及

片状的氟树脂,其设置在所述表面处理铜箔的所述含锌层侧,

所述含锌层由Zn和熔点为1200℃以上的过渡元素M构成,

利用辉光放电发射光谱分析法(GD-OES)对所述铜箔与所述含锌层的界面进行元素分析时,Zn的发光强度IZn相对于Cu的发光强度ICu的比即发光强度比IZn/ICu为3.0×10-3以下,并且Zn的发光强度IZn相对于所述过渡元素M的发光强度IM的比即发光强度比IZn/IM为0.30以上且0.50以下。

2.根据权利要求1所述的覆铜层叠板,其中,所述过渡元素M为选自由Co、Fe、Ni、Mo和W组成的组中的至少一种。

3.根据权利要求1或2所述的覆铜层叠板,其中,所述过渡元素M为Ni和/或Mo。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的覆铜层叠板,其中,所述发光强度比IZn/ICu为1.5×10-3以上且3.0×10-3以下。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的覆铜层叠板,其中,所述发光强度比IZn/IM为0.30以上且0.45以下。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的覆铜层叠板,其中,所述发光强度比IZn/IM为0.35以上且0.45以下。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的覆铜层叠板,其中,所述氟树脂为选自由聚四氟乙烯、四氟乙烯/全氟烷基乙烯基醚共聚物、四氟乙烯/六氟丙烯共聚物和四氟乙烯-乙烯共聚物组成的组中的至少一种。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的覆铜层叠板,其中,所述铜箔的所述含锌层侧的表面为粗糙化处理面。

9.一种印刷电路板,其使用权利要求1~8中任一项所述的覆铜层叠板制造。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三井金属矿业株式会社,未经三井金属矿业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202180045546.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top