[发明专利]用于表征流式细胞仪数据中的溢出扩散的方法和系统在审

专利信息
申请号: 202180045988.1 申请日: 2021-04-22
公开(公告)号: CN115997115A 公开(公告)日: 2023-04-21
发明(设计)人: 理查德·李·哈尔佩特 申请(专利权)人: 贝克顿·迪金森公司
主分类号: G01N15/14 分类号: G01N15/14
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 厍玉梅;程强
地址: 美国新*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 表征 细胞 数据 中的 溢出 扩散 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种表征在针对第二荧光染料获得的流式细胞仪数据中源自第一荧光染料的溢出扩散的方法,所述方法包括:

根据荧光流式细胞仪数据相对于第一荧光染料的强度,将所述荧光流式细胞仪数据划分为多个分位点,所述荧光流式细胞仪数据包括从由第一荧光染料和第二荧光染料发射的光收集的强度信号;

基于从第一荧光染料收集的光的强度为零的假设,通过第一线性回归针对所划分的分位点中的每一个估计从第二荧光染料收集的光的强度的调零的标准偏差;以及

通过第二线性回归从调零的标准偏差获得溢出扩散系数,以表征在针对第二荧光染料获得的流式细胞仪数据中源自第一荧光染料的溢出扩散。

2.根据权利要求1所述的方法,其中第一线性回归包括计算从第一荧光染料收集的光的中值强度的平方根与从第二荧光染料收集的光的强度的标准偏差之间的线性拟合。

3.根据权利要求2所述的方法,其中估计所述调零的标准偏差还包括基于从第一荧光染料收集的光的强度为零的假设,通过确定从第一荧光染料收集的光的中值强度的平方根和从第二荧光染料收集的光的强度的标准偏差之间的所计算的线性拟合的y截距来计算从第二荧光染料发射的光的强度的标准偏差,以及基于所确定的y截距调整从第二荧光染料收集的光的强度的标准偏差。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中第二线性回归包括针对每一个所划分的分位点计算所述调零的标准偏差和从第一荧光染料收集的光的中值强度之间的线性拟合。

5.根据权利要求4所述的方法,其中计算所述溢出扩散系数包括获得所述调零的标准偏差和从第一荧光染料收集的光的中值强度之间的所计算的线性拟合的斜率。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述溢出扩散系数根据公式1计算:

其中:

SS是溢出扩散系数;

σ是从第二荧光染料收集的光的标准偏差;

σ0是基于从第一荧光染料收集的光的强度为零的假设,从第二荧光染料收集的光的强度的标准偏差的估计;以及

F是从第一荧光染料收集的光的中值强度。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中第一线性回归选自普通最小二乘模型、加权最小二乘模型和稳健线性模型。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中第二线性回归选自普通最小二乘模型、加权最小二乘模型和稳健线性模型。

9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中分位点的数量基于所述荧光流式细胞仪数据的大小来确定。

10.根据前述权利要求中任一项所述的方法,还包括接收包括从由第一荧光染料和第二荧光染料发射的光收集的强度信号的荧光流式细胞仪数据。

11.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述荧光流式细胞仪数据是从由多种不同的荧光染料发射的光收集的。

12.根据权利要求11所述的方法,还包括针对所述多种荧光染料中的每对第一荧光染料和第二荧光染料计算溢出扩散系数。

13.根据权利要求11至12中任一项所述的方法,其中针对所述多种荧光染料中的每对第一荧光染料和第二荧光染料计算的溢出扩散系数被组合在溢出扩散矩阵中。

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