[发明专利]感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法在审
| 申请号： | 202180047105.0 | 申请日： | 2021-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN115867864A | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 贺口阳介;小野博史;粂壮和 | 申请（专利权）人： | 昭和电工材料株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 白丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 感光性 元件 抗蚀剂 图案 形成 方法 印刷 线路板 制造 | ||
1.一种感光性元件，其依次具备支撑膜、阻挡层及感光层，其中，
所述阻挡层含有流平剂。
2.根据权利要求1所述的感光性元件，其中，
所述流平剂包含共聚物，所述共聚物具有源自选自由(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、及末端甲氧基EO改性(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少一种的结构单元。
3.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，
所述阻挡层含有聚乙烯醇。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光性元件，其中，
所述阻挡层的厚度为2～12μm。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的感光性元件，其中，
所述感光层包含双酚A型二(甲基)丙烯酸酯化合物。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的感光性元件，其中，
所述感光层包含2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷和/或2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷。
7.一种抗蚀剂图案的形成方法，其包括：
使用权利要求1至6中任一项所述的感光性元件在基板上从该基板侧依次配置感光层、阻挡层及支撑膜的工序；
去除所述支撑膜，隔着所述阻挡层通过活性光线对所述感光层进行曝光的工序；及
从所述基板上去除所述感光层的未固化部及所述阻挡层的工序。
8.一种印刷线路板的制造方法，其包括：
对通过权利要求7所述的抗蚀剂图案的形成方法形成有抗蚀剂图案的基板进行蚀刻处理或镀敷处理来形成导体图案的工序。
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