[发明专利]坚固的流体耦合装置

说明书

一种目标材料供应装置，包括：第一流体流动部件和第二流体流动部件(1122，1126)，它们当联结在一起时限定轴向流动路径，其中轴向流动路径在目标材料流体的源和喷嘴供应装置之间；以及耦合装置，其被配置为密封在第一流体流动部件和第二流体流动部件之间的接头。耦合装置包括具有限定内开口的环形形状的垫圈(1105)，当被安置和密封时该内开口是轴向流动路径的一部分。当垫圈被安置在第一流体流动部件和第二流体流动部件之间从而密封通过附接第一流体流动部件和第二流体流动部件而形成的接头时，从沿着轴向流动路径穿过垫圈内开口的目标材料流体施加到垫圈的压力改善了接头处的密封的气密功能。可选地，功能插入件，例如限流件(1160)能够被安置在垫圈中。

相关申请的交叉引用

本申请要求2020年7月21日提交的标题为ROBUST FLUID COUPLING APPARATUS的美国申请号63/054,410；以及2021年3月29日提交的标题为ROBUST FLUID COUPLINGAPPARATUS的美国申请号63/167,254，以及2020年6月30日提交的标题为ROBUST FLUIDCOUPLING APPARATUS的美国申请号63/216,820的优先权，所有这些通过参考整体并入本文。

技术领域

所公开的主题涉及一种用于流体耦合两个流体流动部件的装置，该装置包括垫圈。

背景技术

极紫外(EUV)光，例如波长为100纳米(nm)或更小的电磁辐射(有时也被称为软x射线)，并且包括波长为例如20nm或更小的光，在5nm和20nm之间，或在13nm和14nm之间，可以被用于光刻过程，以通过在抗蚀剂层中引发聚合反应来在衬底(例如硅晶片)中产生极小的特征。用于生成EUV光的方法包括但不限于将源材料的物理状态改变为等离子体状态。源材料包括发射谱线在EUV范围内的化合物或元素，例如氙、锂或锡。在一种通常被称为激光产生等离子体(“LPP”)的此类方法中，所需的等离子体是通过用放大的光束(可以被称为驱动激光)照射源材料(例如，以源材料的液滴、流或簇的形式)来产生的。对于此过程，等离子体通常在密封容器(例如，真空室)中产生，并且使用各种类型的量测设备来进行监测。处于等离子体状态时在EUV范围内发射的诸如氙、锂或锡之类的源材料通常被称为目标材料，因为它们被驱动激光瞄准并且照射。

发明内容

在一些一般方面，一种目标材料供应装置，包括：第一流体流动部件和第二流体流动部件，该第一流体流动部件和第二流体流动部件当联结在一起时限定轴向流动路径，其中轴向流动路径在目标材料流体的源和喷嘴供应装置之间并且被配置为使目标材料流体朝向喷嘴供应装置通过；以及耦合装置，该耦合装置被配置为密封在第一流体流动部件和第二流体流动部件之间的接头，该耦合装置包括具有限定内开口的环形形状的垫圈，当被安置和密封时内开口是轴向流动路径的一部分。当垫圈被安置在第一流体流动部件和第二流体流动部件之间从而密封通过附接第一流体流动部件和第二流体流动部件而形成的接头时，从沿着轴向流动路径穿过垫圈内开口的目标材料流体施加到垫圈的压力改善了接头处的密封的气密功能。

实现方式可以包括以下特征中的一个或多个。例如，垫圈可以被配置为可从接头拆卸而不损坏接头。在径向平面中延伸的垫圈的至少一个表面可以被配置为在垫圈的外径向配合表面已经与相邻流体流动部件的内径向配合表面接合之后与相邻流体流动部件的突起接合。

第一流体流动部件可以是适配器并且第二流体流动部件可以是目标材料流体储存器，该适配器被定位在目标材料流体储存器和喷嘴供应装置之间。适配器可以由钼铼制成，并且垫圈由聚酰亚胺制成。