[发明专利]用于自母模复制可挠性印模的组合件

说明书

公开一种组合件，其包含用于微结构及纳米结构的压印的母模，该母模在其上表面上具有有效区域，该有效区域具有用于微结构及纳米结构的压印的浮凸结构，其中该母模具有厚度dsubgt;master/subgt;，该组合件还包含框架件，所述框架件环绕母模的外周边配置且沿着外周边齐平，使所述框架件具有厚度dsubgt;frame/subgt;，其中所述框架件的厚度dsubgt;frame/subgt;与母模的厚度dsubgt;master/subgt;偏差最多250μm。此外，本申请还涉及具有改进的对齐的可挠性印模。

本发明涉及用于自母模压印微结构及纳米结构的可挠性印模的复制的组合件及方法。

微米及纳米结构用于增强产品的性能。例如，这可为使用抗反射结构来改进太阳能面板的效率，或通过使用微透镜为显示器创建光学3D效果。

通过使用紫外纳米压印微影(UV-NIL)技术，可将结构加至产品。此技术有不同类型，例如晶圆级UV-NIL、辊对辊压印UV-NIL或辊对板UV-NIL压印。在每种情况中，将具有如产品上所需的反向结构的母模结构压在产品上，其间具有紫外线或可热固化树脂。在固化之后，树脂凝固并由产品移除母模。在不同的方法中，使用具有用于压印微结构及纳米结构所需结构的母模，以由该母模复制可挠性印模。如有需要，可将防粘表面加至此可挠性印模，在这之后使用此印模制作多种多样的产品复制品。

大致上，母模具有相异的厚度。由此厚度，可导致自母模所复制的可挠性印模的质量方面的缺陷。当由此种母模复制时，其目标通常是复制母模的整个表面。因此，用于自母模制作可挠性印模的部分树脂可在母模的侧边及下方流动。这可污染母模的背面并在可挠性印模上创建不受控制的阶差高度和/或凸部，通常具有500μm或更大的厚度，有时候甚至高达约1mm。这可具有不利的影响，因为可挠性印模可由于厚树脂层而起皱和/或凸部将影响用于生产最终产品的下一复制步骤中的复制质量。为了解决源自树脂溢流的问题，通常仅只在母模的内部区域旋涂树脂，而外部区域则未涂覆。然而，在此情况中，并非母模的整个区域都利用于复制。

与母模相邻的不受控制且明显高度的阶差的另一负面影响可为例如由于使用经常使用的可压缩压印辊，靠近母模边缘的压力与远离边缘、也即在母模的内部区域的压力不相同。

母模通常具有小的表面积。然而，对于压印技术，有需要进行大面积压印。这是出于二理由：

1)有机会在大型产品(也即太阳能面板或大型显示器)上压印纹路。

2)在一个复制周期中复制多个产品。由此大大增加产量。

对于大面积复制，需要大面积的母模。母模的成本取决于制造时间，并由此取决于母模的尺寸。因此大面积母模是昂贵的。在辊对辊压印技术中，此问题可通过使用无缝圆筒来解决，例如在WO 2017/032758A1中所公开的。在此情况中，仔细选择滚筒的直径，以确保存在没有缝合线的连续区域。然而，并非所有纹路都可在可接受的价格下以此方式制作。

不同的解决方案是用小基底母模制作大型的按比例放大的母模。经由使用步进及重复方式，母模结构是在矩阵结构中多次复制。在复制区域之间中，有缝合线或接合线。通过优化方法，尝试使缝合或接合宽度尽可能小。步进及重复方法的例子例如描述在使用芯片步进器的US 2004/0124566A1、US 7077992 B2中、及使用辊轮的KR 1017807289 B1中。KR1017807289B1甚至瞄准避免任何可为显示器产品中可见边界的缝合线。根据此文件，应用拼接技术使得配置复制区域，以致复制区域在其相邻边缘重迭(也参见Jong G.Ok等人的非专利文献，“Astep toward next-generation nanoimprint lithography:extendingproductivity and applicability”；Appl.Phys.A(2015)121:343-356)。