[发明专利]晶片洗涤水供给系统以及晶片洗涤水的供给方法在审
申请号: | 202180063164.7 | 申请日: | 2021-09-22 |
公开(公告)号: | CN116368600A | 公开(公告)日: | 2023-06-30 |
发明(设计)人: | 杉田航 | 申请(专利权)人: | 栗田工业株式会社 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 陈曦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶片 洗涤 供给 系统 以及 方法 | ||
1.一种晶片洗涤水供给系统,其中,具有:
晶片洗涤水制造部,通过在超纯水中溶解药剂来制造规定的药剂浓度的晶片洗涤水;
循环式洗涤水供给管,将所述晶片洗涤水制造部中制造的晶片洗涤水供给至用水点;
补给管,将所述晶片洗涤水制造部与循环式洗涤水供给管连接;
测量机构,用于算出流通于所述循环式洗涤水供给管的晶片洗涤水在用水点的洗涤水的使用量;以及
控制机构,基于所述测量机构的测定结果,对从所述晶片洗涤水制造部向所述循环式洗涤水供给管补给晶片洗涤水的补给量进行控制。
2.如权利要求1所述的晶片洗涤水供给系统,其中,所述测量机构为流量计,基于该流量计的测量值算出晶片洗涤水在用水点的使用量,并通过所述控制机构控制所述晶片洗涤水的补给量。
3.如权利要求1所述的晶片洗涤水供给系统,其中,所述测量机构为压力计,基于该压力计的测量值算出晶片洗涤水在用水点的使用量,并通过所述控制机构控制所述晶片洗涤水的补给量。
4.如权利要求1~3中任一项所述的晶片洗涤水供给系统,其中,所述用水点具有多台洗涤机。
5.如权利要求1~4中任一项所述的晶片洗涤水供给系统,其中,在所述循环式洗涤水供给管中具有减压阀。
6.如权利要求1~5中任一项所述的晶片洗涤水供给系统,其中,在所述晶片洗涤水制造部与循环式洗涤水供给管之间不具有储存槽。
7.如权利要求1~6中任一项所述的晶片洗涤水供给系统,其中,所述晶片洗涤水制造部通过泵供给液体的药剂成分或者通过使用非活性气体的加压机构从储存有液体的药剂成分的罐供给液体的药剂成分。
8.一种晶片洗涤水的供给方法,其中,
通过在超纯水中溶解药剂来制造规定的药剂浓度的晶片洗涤水,向循环式洗涤水供给管输送该制造的晶片洗涤水,由此向用水点供给晶片洗涤水,通过循环式洗涤水供给管将所述用水点未使用的晶片洗涤水循环再利用,
所述晶片洗涤水的供给方法测量用于算出流通于所述循环式洗涤水供给管的晶片洗涤水在用水点的洗涤水使用量的指标,
所述控制机构基于所述测量结果对所述晶片洗涤水的补给量进行控制。
9.如权利要求8所述的晶片洗涤水的供给方法,其中,不向所述循环式洗涤水供给管供给晶片洗涤水直至所述晶片洗涤水的药剂成分成为规定浓度。
10.如权利要求8或9所述的晶片洗涤水的供给方法,其中,在所述用水点不使用晶片洗涤水时,也向循环式洗涤水供给管供给少量的洗涤水。
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