[发明专利]光电装置在审

专利信息
申请号: 202180063214.1 申请日: 2021-08-30
公开(公告)号: CN116490986A 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: C·威斯曼;K·费尔斯特尔 申请(专利权)人: 艾迈斯-欧司朗国际有限责任公司
主分类号: H01L33/50 分类号: H01L33/50
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 臧永杰;刘春元
地址: 德国雷*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光电 装置
【权利要求书】:

1.一种光电装置,所述光电装置包括:

光电半导体器件(21)、尤其是LED芯片,具有用于产生光的有源区并且具有光出射面(23),所产生的光通过所述光出射面从所述半导体器件(21)射出,其中所述光出射面(23)被构造在所述半导体器件(21)的上侧(25)上,

转换器(27),所述转换器居中地布置在所述光出射面(23)上方,并且被构造用于将所产生的光转换成具有至少一种其他波长的经转换的光,以及

用于将所述转换器固定在所述半导体器件(21)的上侧(25)处的粘合剂(29),

其特征在于,

投影到所述半导体器件(21)的上侧(25)上的轮廓线(39、45)完全位于所述光出射面(23)内,所述轮廓线在圆周方向(U)上完全环绕所述转换器(27),和

所述粘合剂(29)布置在所述光出射面(23)和所述转换器(27)之间和/或在圆周方向(U)上围绕所述转换器(27)布置,使得所述粘合剂(29)仅布置在所述光出射面(23)上。

2.根据权利要求1所述的光电装置,其特征在于,

所述轮廓线(39)对应于所述转换器(27)的下侧(33)的外圆周。

3.根据权利要求1或2的光电装置,其特征在于,

所述光出射面(23)具有在圆周方向上包围所述光出射面的尤其是虚构的外边缘线(53),并且所投影的轮廓线(39、45)完全位于所述外边缘线(53)内。

4.根据权利要求3所述的光电装置,其特征在于,

所投影的轮廓线(39、45)和所述外边缘线(53)在所述光出射面(23)上构成环绕式的、尤其是虚构的条带(47),其中所述条带(47)在每个点处具有5μm至50μm的宽度、优选地10μm至25μm的宽度、进一步优选地10μm至15μm的宽度。

5.根据前述权利要求中任一项所述的光电装置,其特征在于,

所述光出射面(23)由所述半导体器件(21)的位于所述上侧(25)处的外延层构成,和/或

尤其是包括二氧化钛的白色材料包围所述转化器。

6.根据前述权利要求中任一项所述的光电装置,其特征在于,

至少一个金属区域(49、51)、优选地至少两个金属区域侧向地在所述光出射面(23)旁边被构造在所述半导体器件(21)的上侧(25)处,其中优选地所述金属区域由介电材料遮蔽。

7.根据权利要求6所述的光电装置,其特征在于,

所述粘合剂(29)布置在所述光出射面(23)和所述转换器(27)之间和/或在圆周方向(U)围绕所述转换器(27)布置,使得所述粘合剂(29)不遮蔽、甚至不部分地遮蔽所述至少一个金属区域(49、51)或布置在其上的介电材料。

8.根据前述权利要求中任一项所述的光电装置,其特征在于,

所述转换器(27)具有上部区域(35)和下部区域(37),所述下部区域(37)比所述上部区域(35)更靠近所述光出射面(23),并且所述上部区域(35)在平行于所述上侧(25)的平面中来看具有比所述下部区域(35)更大的横截面。

9.根据权利要求8所述的光电装置,其特征在于,

所述轮廓线(39)在圆周方向(U)上围绕所述下部区域(37)伸展,所述轮廓线到所述半导体器件(21)的上侧(25)上的投影完全位于所述光出射面(23)内。

10.根据权利要求8或9所述的光电装置,其特征在于,

投影到所述半导体器件(21)的上侧(25)上的在圆周方向(U)上围绕所述转换器(27)的上部区域(35)环绕的轮廓线完全位于所述下部区域(35)的经投影的轮廓线(45)之外。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于艾迈斯-欧司朗国际有限责任公司,未经艾迈斯-欧司朗国际有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202180063214.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top