[发明专利]用于对至少一种纱线式和/或带式待处理基材进行粉末浸渍的设施

权利要求书

1.一种用于将粉末(12a)浸渍到至少一种纱线式和/或带式待处理基材(11a)上的浸渍设备(100)，包括：

-粉末输送单元(13、17、25)；

-用于供应待处理基材的单元(18a、19a、19b、23、24)；

-至少两个电极(14)，其连接到交流发电机(22)并且能够在所述电极(14)之间形成的空间中产生交变电场；和

-所述粉末和所述待处理基材(11a)的循环区，其至少在所述交变电场占优势的区域中延伸，其特征在于，

-所述浸渍设备(100)还包括约束单元(15)，所述约束单元(15)具有用于所述待处理基材(11a)和所述粉末(12a)的入口孔、用于经浸渍基材(11b)的出口孔、和从所述入口孔到所述出口孔的封闭轮廓部分；所述循环区是由所述约束单元(15)的内部体积形成的；以及

-所述约束单元(15)相对于所述电极(14)中的至少一个是固定的；所述待处理基材(11a)和所述粉末(12a)在所述循环区中在所述约束单元(15)的所述入口孔和所述出口孔之间移动。

2.根据权利要求1所述的浸渍设备，其特征在于，所述设备包括彼此相对放置的两个电极(14)。

3.根据权利要求1或2所述的浸渍设备，其特征在于，所述基材形成所述两个电极之一。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的浸渍设备，其特征在于，所述约束单元(15)的一部分从所述电极(14)之间形成的空间突出，以允许所述粉末(12a)和所述基材(11a)接触以便被处理。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的浸渍设备，其特征在于，所述约束单元(15)是圆形管。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的浸渍设备，其特征在于，所述约束单元(15)是长椭圆形管。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的浸渍设备，其特征在于，所述约束单元(15)是矩形管。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的浸渍设备，其特征在于，所述约束单元(15)具有区域不同的至少两个部分(152、153)。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的浸渍设备，其特征在于，所述约束单元(15)由相对介电常数大于或等于2的材料制成。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的浸渍设备，其特征在于，所述约束单元(15)由包括玻璃或石英或陶瓷在内的组中所包括的材料制成。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的浸渍设备，其特征在于，所述约束单元(15)是垂直定向的。