[发明专利]线圈部件及其制造方法在审
申请号: | 202180066834.0 | 申请日: | 2021-09-07 |
公开(公告)号: | CN116472593A | 公开(公告)日: | 2023-07-21 |
发明(设计)人: | 铃木将典;高桥延也;本桥睿;藤井直明;米山将基;西川朋永 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社 |
主分类号: | H01F17/00 | 分类号: | H01F17/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦;黄浩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 线圈 部件 及其 制造 方法 | ||
本公开提供了一种线圈部件,具有将螺旋状的线圈图案层叠的结构,可以防止线圈图案的变形。线圈部件(1)具备:层间绝缘膜(51)~(55);线圈部(C),具有线圈图案(CP1)~(CP4)沿轴向交替层叠的结构;以及磁性元件主体(M1)~(M4),将线圈部(C)埋入。位于磁性元件主体(M1)和线圈图案(CP4)的最内周匝之间的层间绝缘膜(55)的径向上的宽度(L41)比位于磁性元件主体(M1)和线圈图案(CP1)~(CP3)的最内周匝之间的层间绝缘膜(52)~(54)的径向上的宽度(L11)、(L21)、(L31)更宽,其中,磁性元件主体(M1)位于线圈部(C)的内径区域。这样,由于层间绝缘膜(55)的宽度在最内周侧被扩大,因此当将磁性元件主体(M1)埋入到线圈部(C)的内径区域时,可以缓和施加于线圈图案(CP4)的最内周匝的压力。
技术领域
本公开涉及一种线圈部件及其制造方法,特别地,涉及一种具有将螺旋状的线圈图案层叠的结构的线圈部件及其制造方法。
背景技术
作为具有将螺旋状的线圈图案层叠的结构的线圈部件,已知有专利文献1所记载的线圈部件。专利文献1所记载的线圈部件具备:线圈部,包括多个线圈图案;以及磁性元件主体,将线圈部埋入。这样,如果是将线圈部埋入到磁性元件主体的结构,则可以得到高的电感值。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:特开2019-140202号公报
发明内容
发明所要解决的问题
然而,在将线圈部埋入到磁性元件主体的工序中,由于较强的压力施加于位于轴向上的端部的线圈图案,因此根据该情况,位于轴向上的端部的线圈图案有可能变形。
然而,本发明的目的在于,在具有将螺旋状的线圈图案层叠的结构的线圈部件及其制造方法中,可以防止线圈图案的变形。
用于解决问题的技术方案
本发明的线圈部件,其特征在于,具备:线圈部,具有多个层间绝缘膜和螺旋状地卷绕的多个线圈图案沿轴向交替层叠的结构;以及磁性元件主体,将线圈部埋入。多个线圈图案至少包括:第1线圈图案,位于轴向上的一端;以及第2线圈图案,与第1线圈图案不同。多个层间绝缘膜包括:第1层间绝缘膜,至少从径向覆盖第1线圈图案;以及第2层间绝缘膜,至少从径向覆盖第2线圈图案。磁性元件主体具有位于线圈部的内径区域的第1部分,位于磁性元件主体的第1部分和第1线圈图案的最内周匝之间的第1层间绝缘膜的径向上的宽度比位于磁性元件主体的第1部分和第2线圈图案的最内周匝之间的第2层间绝缘膜的径向上的宽度更宽。
根据本发明,由于第1层间绝缘膜的宽度在最内周侧被扩大,因此在将磁性元件主体埋入到线圈部的内径区域时,可以缓和施加于第1线圈图案的最内周匝的压力。由此,可以防止第1线圈图案的变形。
在本发明中,第1层间绝缘膜可以从轴向上的一端侧进一步覆盖第1线圈图案。由此,即使在第1线圈图案的基底的平坦性低的情况下,也可以正确地形成第1线圈图案。
在本发明中,第2线圈图案可以与第1线圈图案沿轴向邻接,并且可以位于轴向上的另一端。无论在哪种情况下,都可以充分地确保第2线圈图案的图案宽度。
在本发明中,磁性元件主体可以进一步具有位于线圈部的径向上的外侧区域的第2部分,位于磁性元件主体的第2部分和第1线圈图案的最外周匝之间的第1层间绝缘膜的径向上的宽度可以比位于磁性元件主体的第2部分和第2线圈图案的最外周匝之间的第2层间绝缘膜的径向上的宽度更宽。由此,在将磁性元件主体埋入到线圈部的外侧区域时,可以缓和施加于第1线圈图案的最外周匝的压力。
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