[发明专利]用于固定基底以对基底进行表面处理的夹持装置

说明书

本公开涉及一种用于固定基底以对基底进行表面处理的夹持装置，一种用于固持基底以对基底进行表面处理的夹持模块，以及一种组装用于固定基底以对基底进行表面处理的夹持装置的方法。所述用于固定基底以对基底进行表面处理的夹持装置包括：夹持支架和驱动单元。从横截面看，所述夹持支架包括：第一臂和第二臂。第一臂可相对于第二臂移动至基底的接收位置且第一臂与第二臂之间保持接收距离。第一臂可相对于第二臂移动至基底的固定位置且第一臂与第二臂之间保持固定距离。所述固定距离小于接收距离。所述驱动单元至少部分地被所述夹持支架包围。所述驱动单元至少有一部分可相对于夹持支架移动，以将第一臂移动至接收位置或固定位置。

技术领域

本公开涉及一种用于固定基底以对基底进行表面处理的夹持装置，一种用于固持基底以对基底进行表面处理的夹持模块，以及一种组装用于固定基底以对基底进行表面处理的夹持装置的方法。

背景技术

在许多行业中，为了提高生产率和其他原因，能够以简单且安全的方式在所谓的处理、固持或加工框架中固定及传送易碎的基底，以实现基底的自动装载和卸载，是一个基本要求。这对于必须处理大尺寸基底(即具有大的外径尺寸、直径或周长的基底)的行业来说尤其重要。此外，这种基底往往非常薄，可以由半导体、绝缘体(如玻璃或石英)、聚合物/塑料等制成。

在设计这种大尺寸基底固持框架时，必须考虑的额外要求是在这种固持框架用于在基底的表面或基底的多个表面上方进行特定程序期间，基于保护基底的个别用途。

例如，在半导体行业中(包括太阳能电池和印刷电路板的生产过程，以及平板显示器的制造等)，这种框架在工艺结果中起着非常重要的作用，这些都是非常关键的示例。

在这些行业和类似行业中，依赖于这种基底固持框架的优化功能的工艺有很多：材料沉积、光刻、湿法和干法蚀刻、基底清洁等。

作为一具体示例，在基底湿法清洗领域存在一个非常特定的挑战。为了避免任何化学残留物或干燥残留物(也叫干燥污渍)，在各种化学处理步骤之间进行的化学冲洗过程，以及最后的基底冲洗和干燥过程，不仅要由这样一个基底固持框架来支持，而且由其实现。湿法清洗过程以许多不同的方式进行，例如通过化学喷雾或浸泡带处理。

在另一具体示例中，所述固持框架用于固持基底，以将基底引入电镀工艺。然后，作为额外的要求，所述固持框架必须提供与基底表面或基底的多个表面的电接触，且所述电接触极易控制。

现有技术描述了各种固定及固持基底的方法。现有技术系统的局限性主要体现在将基底固定和固持在预定位置的机械装置的复杂性。大多数系统使用复杂而笨重的机械夹持装置，如铰链式框架，其在多个点位上围封基底，并将基底角落的大部分从工艺中屏蔽。如果化学物渗透到多个框架部件和基底之间，则化学物就很难甚至不可能再冲洗掉，从而导致化学物拖到设备的其他部分甚至整个晶圆厂。这无疑会导致制造和产量问题，而且会对人员造成危险，对设备造成损害。其他框架设计使用单独的夹具将框架固持于预定位置，由于夹具设计的角落和边缘可能使得水滴留在后面并蒸发，这通常使得化学物也不能彻底冲洗，而且肯定不是一个良好的干燥工艺。液体的任何蒸发都会导致非挥发性的溶解残留物与液体的残留。

发明内容

因此，可能有必要提供一种改进的用于固定基底以对基底进行表面处理的夹持装置，特别是可以易于传送。

上述问题可以通过独立权利要求的内容来解决，其中进一步的实施例被纳入从属权利要求中。应当注意的是，以下描述的本公开的各个方面也适用于用于固定基底以对基底进行表面处理的夹持装置，用于固持基底以对基底进行表面处理的夹持模块，以及组装用于固定基底以对基底进行表面处理的夹持装置的方法。