[发明专利]泽山葵栽培系统及栽培方法在审

专利信息
申请号: 202180077026.4 申请日: 2021-11-26
公开(公告)号: CN116528661A 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 木场佑二;小林章洋;广濑贵文 申请(专利权)人: 宇部爱科喜模株式会社
主分类号: A01G22/25 分类号: A01G22/25
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 许峰;金丹
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 泽山葵 栽培 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种泽山葵栽培系统,具有:

表土;

配置在该表土上,具有能够使泽山葵的苗贯通的贯通孔,透水度50%以下的片状或板状的地面覆盖构件;及

配置在该地面覆盖构件之上,遍及所述地面覆盖构件的整个表面地保持栽培水的栽培水保持部,

栽培水从所述栽培水保持部穿过所述贯通孔向表土渗透。

2.根据权利要求1所述的泽山葵栽培系统,其中,

向所述栽培水保持部连续地供给栽培水。

3.根据权利要求1或2所述的泽山葵栽培系统,其中,

所述栽培水保持部具有将所述地面覆盖构件的表面上的栽培水排出的表面水排出部。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的泽山葵栽培系统,其中,

所述泽山葵栽培系统具有渗透水排出部,该渗透水排出部配置在所述表土的下部,将渗透于表土的栽培水排出。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的泽山葵栽培系统,其中,

在所述地面覆盖构件的上表面具有使所述地面覆盖构件向所述表土紧贴的重物部。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的泽山葵栽培系统,其中,

所述泽山葵栽培系统具有控制从所述贯通孔向所述表土的栽培水的渗透量的渗透水控制部。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的泽山葵栽培系统,其中,

在所述地面覆盖构件具有不进行泽山葵的种植的第二贯通孔。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的泽山葵栽培系统,其中,

所述泽山葵栽培系统具备:

铺设有所述表土,在底面具有倾斜坡度的栽培槽;及

在所述栽培槽的底部相对于所述栽培水的流动方向而配设至所述栽培槽的最下游的一个或多个多孔管。

9.根据权利要求8所述的泽山葵栽培系统,其中,

所述多孔管的起点被规定在所述栽培槽的最上游与最下游之间。

10.一种泽山葵栽培方法,其中,

泽山葵栽培系统具有:

表土;

配置在该表土上,具有能够使泽山葵的根茎贯通的贯通孔,透水度50%以下的片状或板状的地面覆盖构件;及

配置在该地面覆盖构件之上,遍及所述地面覆盖构件的整个表面地保持栽培水的栽培水保持部,

所述泽山葵栽培方法使用所述泽山葵栽培系统,执行:

向所述栽培水保持部连续地供给栽培水的栽培水供给工序;

使栽培水从所述栽培水保持部穿过所述贯通孔向表土渗透的栽培水渗透工序;

将所述地面覆盖构件的表面上的栽培水排出的表面水排出工序;及

从所述表土的下部将渗透于表土的栽培水排出的渗透水排出工序。

11.根据权利要求10所述的泽山葵栽培方法,其中,

使通过所述表面水排出工序排出的栽培水不进行循环,而是从所述泽山葵栽培系统排出。

12.根据权利要求10或11所述的泽山葵栽培方法,其中,

使通过所述渗透水排出工序排出的栽培水不进行循环,而是从所述泽山葵栽培系统排出。

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