[发明专利]泽山葵栽培系统及栽培方法

说明书

提供一种选择性地使水仅向泽山葵根部渗透，并且向栽培区域表面也常时冲水的泽山葵栽培系统及栽培方法。该泽山葵栽培系统，具有：表土；配置在该表土上，具有能够使泽山葵的苗贯通的贯通孔，透水度50％以下的片状或板状的地面覆盖构件；配置在该地面覆盖构件之上，遍及所述地面覆盖构件的整个表面地保持栽培水的栽培水保持部，栽培水从所述栽培水保持部穿过所述贯通孔向表土渗透。

技术领域

本技术涉及泽山葵栽培系统及栽培方法。更详细而言，涉及能实现高效化的泽山葵栽培系统及栽培方法。

背景技术

以往的泽山葵栽培在能够丰富地利用山间部的土地和栽培水的被限定的地域进行。然而，山间部的栽培存在由于水灾的浊流而造成山葵田的崩溃、由于杂菌混入栽培水而容易患病的风险，被指出生产量减少这样的课题。而且，在泽山葵栽培中，也被指出泽山葵从根部释放出生长阻碍成分而引起自我中毒从而泽山葵的根茎的生长变慢的课题。

为了解决这样的以往的泽山葵栽培的问题点，近年来，提出了能够在山间部以外进行栽培以避免灾害、生病风险的各种泽山葵栽培方法。例如，专利文献1公开了一种山葵栽培成套设备，其具有将在土壤地域设有多个的栽培区域各自的上方通过覆盖体覆盖而构成的大棚栽培部，在该各大棚栽培部设置将栽培用水进行洒水的洒水部，并设置将从该洒水部洒出的栽培用水向所述大棚栽培部的外部排水的排水部，将相邻的所述大棚栽培部中的一个大棚栽培部的排水部与另一个大棚栽培部的洒水部相连设置，从一个大棚栽培部的排水部向另一个大棚栽培部的洒水部供给栽培用水。该技术是能够构筑出能够可靠地将泽山葵栽培所需的栽培水量向根部集中供给并有效地冲走生长阻碍成分的栽培环境的泽山葵栽培方法。

另外，专利文献2公开了一种植物的营养液栽培方法，并记载了使用该方法能够栽培泽山葵的情况，在该植物的营养液栽培方法中，准备将在具有隔热性及遮光性的细长的板状的主体上将多个种植孔排列一条或两条的间隔盒组合多个而成的种植单元，将多个间隔盒的各自的主体以距水耕栽培床的底面成为规定的高度的方式整齐排列配置于同一水耕栽培床，并将植物的苗通过固定材料固定于各种植孔，而且，根据植物的生长阶段而能够扩宽间隔盒的整齐排列间隔。

作为其他的方法，存在使用叠石式地制作的山葵田的方法。该方法是具有如下特征的栽培方法：在山间部的能够确保栽培水的地区制作栽培区域，将筛选的碎石砂层叠而制作表土层，引导栽培水，分成向表土表面流动的表面水和向表土内部渗透的渗透水。在该方法中，由于栽培水在表土上流动，因此杂草难以生长，能够冲走枯叶、废料，能够将泽山葵周边的环境保持为适合于栽培的温度。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-4683号公报

专利文献2：日本特开平9-23774号公报

发明内容

发明要解决的课题

如前所述，关于泽山葵的栽培方法，开发出各种技术，但实际情况是仍然存在较多课题。具体而言，专利文献1的方法由于洒水位置仅为根部，栽培水未向栽培区域表面流动，因此存在表土上产生杂草或苔藓的情况、未冲走枯叶或废料而污染的情况、由于根茎未浸泡在水中而绿色的显色变差的情况、表土表面层未冷却而栽培环境变差这样的课题。

另外，专利文献2的方法由于是水耕栽培，因此在水耕栽培床下部，培养基仅为营养液，泽山葵的根未被固定而摇动，因此生长变差，在约1年的栽培中仅能收获约70g/株，存在生产量少这样的课题。

另外，通过叠石式制作的山葵田存在流动的水在整体上不均匀的情况、在栽培区域局部地产生积水的情况、生长速度产生差别而生产量不稳定这样的课题。例如，在使用一般的泽山葵栽培系统的情况下产生的泽山葵的生长不均的情形如图13所示。

因此，在本技术中，主要目的在于提供一种选择性地使水仅向泽山葵根部渗透，并且也向栽培区域表面常时冲水的泽山葵栽培方法。