[发明专利]量测方法和相关联的设备

权利要求书

1.一种量测方法，包括：

测量与对量测信号的周围信号贡献相关的至少一个周围可观察参数，所述周围信号贡献包括不可归因于被测量的至少一个目标的对所述量测信号的贡献；

根据所述周围信号可观察参数来确定校正；

获得与使用测量辐射进行的对一个或更多个目标的测量相关的第一测量数据，所述测量辐射在所述一个或更多个目标中的一个或更多个上形成大于所述目标中的一个目标的测量光斑；以及

将所述校正应用于所述第一测量数据。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述周围信号贡献包括当测量所述目标时在所述测量光斑中捕获的可归因于周围结构的贡献。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述至少一个周围信号可观察参数包括以下各项中的一项或更多项：

对应于所述周围结构的信号强度或强度指标；

对应于所述周围结构的干涉图案的振幅；

对应于所述周围结构的对准位置和/或条纹位置；

对应于所述周围结构的不对称性；

对应于所述周围结构的强度不平衡性；

对应于所述周围结构的条纹可见性；

对应于所述周围结构的、针对不同颜色的对准位置之间的差异。

4.如权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，测量至少一个周围可观察参数及确定校正的所述步骤在初始校准阶段中被执行；并且所述校准阶段还包括：

在所述校准阶段中，将所述校正确定为至少一个周围可观察参数与所述周围信号贡献之间的至少一个校正关系。

5.如权利要求4所述的方法，其中，所述确定至少一个校正关系包括：确定用于所述测量辐射的多个不同的标称叠层和/或照射条件中的每一个的校正关系。

6.如权利要求4或5所述的方法，包括：获得校准测量数据，所述校准测量数据包括校准目标数据和对应的校准周围可观察参数数据。

7.如权利要求4至6中任一项所述的方法，其中，所述第一测量数据包括：

与所述一个或更多个目标相关的目标测量数据；以及

与所述一个或更多个目标附近的周围结构相关的对应的周围可观察参数数据。

8.如权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，所述第一测量数据的第一子集与一个或更多个量测目标相关，并且所述测量数据的第二子集与一个或更多个不可见目标相关，所述一个或更多个不可见目标对于测量不可见目标的量测工具来说是不可见的；并且

根据在所述不可见目标的测量图像内的、对应于所述不可见目标的感兴趣的不可见目标区域的量测信号值来确定所述校正。

9.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述第一测量数据包括以下各项中的一项或两项：

曝光后测量结果；以及

曝光前测量结果或对准测量结果。

10.一种计算机程序，包括处理器可读指令，所述处理器可读指令当在运行于合适的处理器控制的设备上时使所述处理器控制的设备执行如前述权利要求中任一项所述的方法。

11.一种计算机程序载体，包括如权利要求10所述的计算机程序。

12.一种量测设备，包括：

用于包括所述一个或更多个目标的衬底的支撑件；

光学系统，所述光学系统用于测量每个目标；

处理器；以及

如权利要求11所述的计算机程序载体，所述计算机程序载体使得所述处理器能够控制所述量测设备以执行如权利要求1至9中任一项所述的方法。