[发明专利]用于半导体构件用树脂组合物的中空树脂颗粒在审
申请号: | 202180084010.6 | 申请日: | 2021-12-03 |
公开(公告)号: | CN116615471A | 公开(公告)日: | 2023-08-18 |
发明(设计)人: | 原田良祐;冈本光一朗 | 申请(专利权)人: | 积水化成品工业株式会社 |
主分类号: | C08F30/02 | 分类号: | C08F30/02 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;石腾飞 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 半导体 构件 树脂 组合 中空 颗粒 | ||
1.一种用于半导体构件用树脂组合物的中空树脂颗粒,其在颗粒内部具有孔隙部,
配混有聚酰亚胺80重量份和该中空树脂颗粒20重量份的薄膜(F1)的相对介电常数Dk1相对于仅由该聚酰亚胺形成的薄膜(F0)的相对介电常数Dk0的减少率为3%以上。
2.根据权利要求1所述的用于半导体构件用树脂组合物的中空树脂颗粒,其中,所述薄膜(F1)的介质损耗角正切Df1相对于所述薄膜(F0)的介质损耗角正切Df0的减少率为3%以上。
3.根据权利要求1或2所述的用于半导体构件用树脂组合物的中空树脂颗粒,其中,所述中空树脂颗粒的体积平均粒径为0.5μm~100μm。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的用于半导体构件用树脂组合物的中空树脂颗粒,其中,所述中空树脂颗粒含有聚合物(P),所述聚合物(P)包含选自由源自乙烯基系单体的结构单元(I)和源自磷酸酯系单体的结构单元(II)组成的组中的至少1种。
5.根据权利要求4所述的用于半导体构件用树脂组合物的中空树脂颗粒,其中,所述源自磷酸酯系单体的结构单元(II)具有乙烯系不饱和基团。
6.根据权利要求4或5所述的用于半导体构件用树脂组合物的中空树脂颗粒,其中,所述磷酸酯系单体用通式(1)表示,
通式(1)中,R1为(甲基)丙烯酰基或烯丙基,R2为直链状或支链状的亚烷基,m为1~30的整数,n为0或1,v为1~10的整数,x为1或2。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的用于半导体构件用树脂组合物的中空树脂颗粒,其比表面积为1m2/g~30m2/g。
8.根据权利要求1~7中任一项所述的用于半导体构件用树脂组合物的中空树脂颗粒,其松密度为0.01g/cm3~0.6g/cm3。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的用于半导体构件用树脂组合物的中空树脂颗粒,其中,所述颗粒内部的孔隙部的结构为多孔结构。
10.根据权利要求1~8中任一项所述的用于半导体构件用树脂组合物的中空树脂颗粒,其中,所述颗粒内部的孔隙部的结构为单中空结构。
11.一种半导体构件,其包含权利要求1~10中任一项所述的用于半导体构件用树脂组合物的中空树脂颗粒。
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