[发明专利]一种无溶剂无配体球磨法制备高稳定性CsPbBr3 在审
申请号: | 202210022251.4 | 申请日: | 2022-01-10 |
公开(公告)号: | CN114437720A | 公开(公告)日: | 2022-05-06 |
发明(设计)人: | 谢会东;刘伟;汪志腾;杨厂 | 申请(专利权)人: | 西安建筑科技大学 |
主分类号: | C09K11/66 | 分类号: | C09K11/66;C09K11/02;B82Y40/00;B82Y20/00 |
代理公司: | 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 | 代理人: | 金艳婷 |
地址: | 710055*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 溶剂 无配体球磨 法制 稳定性 cspbbr base sub | ||
1.一种无溶剂无配体球磨法制备高稳定性CsPbBr3量子点的方法,其特征在于,包括以下步骤:
将Cs源、Pb源、Br源按照摩尔比例为1:1~6:1~9的比例混合,再加入PMMA得到混合物,将混合物在360~630r/min下球磨1~2h,得到产物CsPbBr3量子点;
所述Cs源为溴化铯或硬脂酸铯,所述Pb源为溴化铅或硬脂酸铅,所述Br源为溴化钾;
所述Cs源、Pb源、Br源总质量占Cs源、Pb源、Br源、PMMA总质量的0.5%~2.5%。
2.如权利要求1所述的无溶剂无配体球磨法制备高稳定性CsPbBr3量子点的方法,其特征在于,所述Cs源为硬脂酸铯,Pb源为溴化铅,Br源为溴化钾。
3.如权利要求1或2所述的无溶剂无配体球磨法制备高稳定性CsPbBr3量子点的方法,其特征在于,所述硬脂酸铯、溴化铅和溴化钾摩尔比为1:4:7。
4.如权利要求1所述的无溶剂无配体球磨法制备高稳定性CsPbBr3量子点的方法,其特征在于,所述Cs源、Pb源、Br源总质量占Cs源、Pb源、Br源、PMMA总质量的0.75%。
5.如权利要求1所述的无溶剂无配体球磨法制备高稳定性CsPbBr3量子点的方法,其特征在于,所述球磨转速为500r/min。
6.如权利要求1所述的无溶剂无配体球磨法制备高稳定性CsPbBr3量子点的方法,其特征在于,所述球磨机内研磨球为氧化锆球,氧化锆球粒径为2~8mm。
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