[发明专利]读出电路版图在审

专利信息
申请号: 202210028129.8 申请日: 2022-01-11
公开(公告)号: CN116467988A 公开(公告)日: 2023-07-21
发明(设计)人: 杨桂芬 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392;G06F30/3947;G06F115/12
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 代理人: 成丽杰
地址: 230601 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 读出 电路 版图
【权利要求书】:

1.一种读出电路版图,其特征在于,包括:

第一PMOS版图,用于形成第一PMOS管,所述第一PMOS管的源极连接第一信号端,所述第一信号端用于接收第一电平信号;

第一NMOS版图,用于形成第一NMOS管,所述第一NMOS管的源极连接第二信号端,所述第二信号端用于接收第二电平信号;

所述第一电平信号和所述第二电平信号中其中一个为高电平信号,另一个为低电平信号;

所述第一PMOS管的栅极和所述第一NMOS管的栅极连接位线,所述第一PMOS管的漏极和所述第一NMOS管的漏极连接互补读出位线;

第二PMOS版图,用于形成第二PMOS管,所述第二PMOS管的源极连接所述第一信号端;

第二NMOS版图,用于形成第二NMOS管,所述第二NMOS管的源极连接所述第二信号端;

所述第二PMOS管的栅极和所述第二NMOS管的栅极连接互补位线,所述第二PMOS管的漏极和所述第二NMOS管的漏极连接读出位线;

在垂直于位线延伸方向上,所述第一PMOS版图和所述第二PMOS版图对称设置,所述第一NMOS版图和所述第二NMOS版图对称设置。

2.根据权利要求1所述的读出电路版图,其特征在于,还包括:

偏移消除版图,用于形成第一偏移消除MOS管和第二偏移消除MOS管;

隔离版图,用于形成第一隔离MOS管和第二隔离MOS管;

所述第一偏移消除MOS管和所述第一隔离MOS管设置在第一区域中,且所述第一偏移消除MOS管和所述第一隔离MOS管共用有源区;

所述第二偏移消除MOS管和所述第二隔离MOS管设置在第二区域中,且所述第二偏移消除MOS管和所述第二隔离MOS管共用有源区;

在垂直于位线延伸方向上,所述第一区域和所述第二区域对称设置。

3.根据权利要求2所述的读出电路版图,其特征在于,所述第一偏移消除MOS管的源极连接所述位线,漏极连接所述互补读出位线,栅极用于接收所述偏移消除信号;所述第二偏移消除MOS管的源极连接所述互补位线,漏极连接所述读出位线,栅极用于接收所述偏移消除信号。

4.根据权利要求2所述的读出电路版图,其特征在于,所述第一隔离MOS管的源极连接所述位线,漏极连接所述读出位线,栅极用于接收所述隔离信号;所述第二隔离MOS管的源极连接所述互补位线,漏极连接所述互补读出位线,栅极用于接收所述隔离信号。

5.根据权利要求1所述的读出电路版图,其特征在于,还包括:均衡充电版图,用于形成均衡充电模块,其中,

所述均衡充电版图部分设置在第一区域中,部分设置在第二区域中;

或,所述第一PMOS版图和所述第二PMOS版图基于所述均衡充电版图对称设置,所述第一NMOS版图和所述第二NMOS版图基于所述均衡充电版图对称设置,所述第一区域和所述第二区域基于所述均衡充电版图对称设置。

6.根据权利要求5所述的读出电路版图,其特征在于,所述均衡充电模块,一端连接所述读出位线,另一端连接所述互补读出位线,用于将所述读出位线和所述互补读出位线均衡至预设电压。

7.根据权利要求6所述的读出电路版图,其特征在于,所述均衡充电模块,包括:

第一预充电MOS管,源极连接所述互补读出位线;

第二预充电MOS管,源极连接所述读出位线;

所述第一预充电MOS管的漏极和所述第二预充电MOS管的漏极用于接收所述预设电压,所述第一预充电MOS管的栅极和所述第二预充电MOS管的栅极用于接收预充电信号;

均衡MOS管,源极连接所述互补读出位线,漏极连接所述读出位线,栅极用于接收均衡信号。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司,未经长鑫存储技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210028129.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top