[发明专利]内连线结构在审
申请号: | 202210031627.8 | 申请日: | 2022-01-12 |
公开(公告)号: | CN114530431A | 公开(公告)日: | 2022-05-24 |
发明(设计)人: | 黄心岩;罗廷亚;李劭宽;邓志霖;李承晋;张孝慷;眭晓林 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/48 | 分类号: | H01L23/48;H01L21/48 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 聂慧荃;郑特强 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 连线 结构 | ||
【权利要求书】:
1.一种内连线结构,包括:
一介电层;
一第一导电结构,位于该介电层中;
一导电层,位于该介电层上,其中该导电层包括相邻的一第一部分与一第二部分,且该导电层的该第二部分位于该第一导电结构上;
一第一阻挡层,接触该导电层的该第一部分;
一第二阻挡层,接触该导电层的该第二部分;以及
一支撑层,接触该第一阻挡层与该第二阻挡层,其中一气隙位于该第一阻挡层与该第二阻挡层之间,且该介电层与该支撑层暴露至该气隙。
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