[发明专利]再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法

说明书

本申请涉及再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法，该方法包括以下连续步骤：（a）用软质擦拭物对所述衬里的表面进行湿式研磨；（b）任选地，在40‑60℃下，用中性脱脂剂清洗所述衬里的表面；（c）任选地，在40‑60℃下，用浓度为0.05重量%‑5重量%的柠檬酸溶液清洗所述衬里的表面；和（d）干燥所述衬里的表面。本申请能够实现简化蚀刻机或PECVD设备的衬里的再生工艺、提高其再生次数并有效降低生产成本。

技术领域

本申请涉及蚀刻机或PECVD设备的衬里的表面处理技术领域，更特别涉及再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法。

背景技术

蚀刻机或PECVD设备的衬里（又称LINER）是用于保护蚀刻机腔体内部免受等离子腐蚀的装置。实际应用中，由于铝合金具备质量轻和含性能良好的氧化膜的优点，通常使用铝合金材质并进行精密的阳极氧化处理（形成氧化膜，又称皮膜）以用作蚀刻机或PECVD设备的衬里。然而，由于蚀刻机腔体内部腐蚀性的气体作用，会导致蚀刻机或PECVD设备的衬里皮膜被持续刻蚀，以致逐渐失去保护作用。

因此，当蚀刻机或PECVD设备的衬里使用寿命到期后，就需要重新进行表面工程，生成全新的阳极皮膜，此过程称之为蚀刻机或PECVD设备的衬里的再生。现有技术中，该再生过程一般由剥离皮膜、研磨、遮蔽、阳极氧化、烘干等步骤组成，其实际上与新品蚀刻机或PECVD设备的衬里的生产工艺基本相同，仅仅是增加了剥离氧化膜的工序。然而，由于蚀刻机或PECVD设备的衬里对其厚度稳定性以及其所含的孔（一般为数个或数十个）的尺寸稳定性（防止造成装配间隙）有较高的要求，随着上述再生次数的增加，衬里厚度会不断变薄且孔的尺寸会不断扩张，直到不符合安装标准并报废。一般地，使用上述现有技术的再生方法，会逐步导致蚀刻机或PECVD设备的衬里的厚度或孔尺寸的较大幅度的变化，因此再生次数一般最多仅为10次左右且使用成本很高。

因此，非常需要开发一种新的再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法和设备，以简化再生工艺、提高再生次数并有效降低生产成本。

发明内容

通过提供一种新的再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法和设备，其能够实现简化再生工艺、提高再生次数并有效降低生产成本。

根据本申请的第一方面，其提供再生蚀刻机或PECVD设备的衬里的方法，该方法包括以下连续步骤：

（a）用软质擦拭物对所述衬里的表面进行湿式研磨；

（b）任选地，在40-60℃下，用中性脱脂剂清洗所述衬里的表面；

（c）任选地，在40-60℃下，用浓度为0.05重量%-5重量%的柠檬酸溶液清洗所述衬里的表面；和

（d）干燥所述衬里的表面。

在一个优选实施方案中，所述步骤（a）中的软质擦拭物为目数不小于1000#的多孔织物。

在一个更优选实施方案中，所述多孔织物为百洁布或羊绒布或海绵砂。

在一个优选实施方案中，所述步骤（a）中的湿式研磨采用手动和/或机械驱动进行，优选采用机械驱动进行，更优选采用手持式高速气动研磨机进行。

在一个更优选实施方案中，所述手持式高速气动研磨机的空载转速为8000-13000转/分钟和/或工作压力为7-8kg，进一步优选为12000转/分钟和/或工作压力为7.5kg。

在一个优选实施方案中，所述步骤（a）中的湿式研磨使用去离子水进行。

在一个更优选实施方案中，所述步骤（a）中的湿式研磨使用超纯水进行。

在一个优选实施方案中，所述步骤（a）进行3-8分钟。

在一个优选实施方案中，所述步骤（b）在50-55℃下进行。