[发明专利]一种电沉积硅薄膜的方法在审

专利信息
申请号: 202210050151.2 申请日: 2022-01-17
公开(公告)号: CN114318456A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 董飘平;蒋航宇;王璐;赵尹;刘宇豪 申请(专利权)人: 桐乡市思远环保科技有限公司
主分类号: C25D9/08 分类号: C25D9/08
代理公司: 北京圣州专利代理事务所(普通合伙) 11818 代理人: 李春
地址: 314500 浙江省嘉兴市桐乡*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 沉积 薄膜 方法
【说明书】:

发明公开了一种电沉积硅薄膜的方法,包括以下步骤:a)将离子液体干燥除水,b)将所述无水离子液体在所述真空手套箱中与硅盐搅拌混合,得混合溶液;c)处理电极,d)将所述混合溶液通入到电池槽中电沉积,电沉积完成后将阴极板取出清洗得到硅薄膜。本发明采用上述结构的一种电沉积硅薄膜的方法,不仅能够解决四氯化硅污染环境、增加企业生产成本的问题,而且还能够解决传统方法电沉积硅薄膜所需温度高、能耗高、产品质量差的问题。

技术领域

本发明涉及新能源材料技术领域,特别是涉及一种电沉积硅薄膜的方法。

背景技术

随着工业化进程的加快、化石矿物燃料的燃烧导致了不可再生能源短缺、温室效应、环境污染等日益严重。太阳能由于具有绿色、安全、可持续、数量巨大等优点,越来越受到人们的关注,将来太阳能会替代部分不可再生能源成为能源供应的重要组成部分,占据世界能源的重要席位。据报道到2030年,光伏太阳能发电会占据世界电力供应的重要组成成分。太阳能光伏电池的广泛应用,一定程度上缓解了能源短缺的现状,但是随着太阳能光伏产业的快速发展,多晶硅作为是光伏产业和电子工业的重要原料,多晶硅需求量逐年上升。光伏产业快速发展,高纯度硅需求量快速提高,促进了多晶硅产业的快速发展。

目前高纯度硅的生产工艺主要采用改良西门子法制备晶体硅,在晶体硅的工业生产过程中不可避免的产生四氯化硅,1吨多晶硅的生产会伴随着产生15吨左右的副产物四氯化硅,而四氯化硅是一种强烈腐蚀性很强且有毒有害的液体,不加处理严重污染环境。副产物四氯化硅的产生影响多晶硅产业的循环清洁生产,增加企业生产成本,降低生产企业效益。如果四氯化硅直接排放,会对环境产生严重危害。目前四氯化硅的回收技术还存在技术门槛高、一次转化率低、高能耗等问题。因此,有必要开发绿色、高效处理四氯化硅技术,而传统工艺得到的高纯度硅都是在高温、高能耗的条件下制备的。

发明内容

本发明的目的是提供一种电沉积硅薄膜的方法,不仅能够解决四氯化硅污染环境、增加企业生产成本的问题,而且还能够解决传统方法电沉积硅薄膜所需温度高、能耗高、产品质量差的问题。

为实现上述目的,本发明提供了一种电沉积硅薄膜的方法,包括以下步骤:

a)将离子液体干燥除水,将离子液体直接放入真空手套箱中抽至真空,恒温干燥,去除离子液体中的水分,干燥完成后,将无水离子液体快速转移至充满氩气的所述真空手套箱中备用;

b)将所述无水离子液体在所述真空手套箱中与硅盐搅拌混合,得混合溶液;

c)处理电极,将电极打磨抛光,然后除去表面的有机物,清洗干净,干燥后备用;

d)将所述混合溶液通入到电池槽中电沉积,电沉积完成后将阴极板取出清洗得到硅薄膜。

优选的,所述离子液体为1-乙基-3-甲基-咪唑双(三氟甲基磺酰基)亚胺([EMIM]Tf2N)、1-丁基-3-甲基吡咯烷酰基双(三氟甲基磺酰基)亚胺([BMPy]Tf2N)中的一种或者二者混合物,所述硅盐为四氯化硅。

优选的,步骤a)中,所述恒温干燥的温度为120℃,所述干燥的时间为24h。

优选的,步骤b)中,所述电极采用三电极体系,其中钛板(99.99%)为工作电极,铂板(99.99%)为对电极,银电极(99.99%)为准参比电极。

优选的,所述电极处理具体的为:所述电极处理具体的为:打磨抛光使用800#的石英砂纸表面打磨光滑,接着用抛光粉抛光,然后用超纯水冲洗去除表面碎屑后浸入丙酮中去除表面有机物,最后再浸入无水乙醇中在超声清洗仪中超声15min,超声完成后用氮气吹干,快速转移至充满氩气的真空手套箱中备用。

优选的,步骤d)中,所述电沉积的实验条件为:SiCl4浓度为0.1-1.0mol/L,温度为10-60℃,电流密度为5-100A/m2

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