[发明专利]阵列基板的栅极断线修复方法、阵列基板和显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板的栅极断线修复方法，其特征在于，包括以下步骤：

栅极电路成型步骤，包括在衬底基板表面形成第一金属层，并对所述第一金属层进行曝光和刻蚀，形成栅极电路，检测栅极断线点位；

源漏电路成型步骤，包括在所述第一金属层背离衬底基板一侧形成第二金属层，对所述第二金属层进行曝光，对曝光后的第二金属层进行光刻胶修复，并进行刻蚀，形成源漏电路；

阵列基板修补步骤，包括对形成的阵列基板进行栅极断线修补。

2.根据权利要求1所述的栅极断线修复方法，其特征在于，所述光刻胶修复包括下载检测到的栅极断线点位，在所述第二金属层背离衬底基板的表面上形成光刻胶层，并剥离栅极断线点位两侧的部分光刻胶。

3.根据权利要求2所述的栅极断线修复方法，其特征在于，刻蚀光刻胶修复后的第二金属层包括刻蚀光刻胶剥离位置处的第二金属层，以在刻蚀位置处形成单个金属层。

4.根据权利要求3所述的栅极断线修复方法，其特征在于，对形成的阵列基板进行栅极断线修补包括下载光刻胶修复后的断线点位，在栅极断线两侧的单金属层区域进行打孔、注膜和成膜修复连接断线。

5.根据权利要求2所述的栅极断线修复方法，其特征在于，光刻胶剥离采用皮秒级镭射进行。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的栅极断线修复方法，其特征在于，用于断线修复的材料为W。

7.根据权利要求1所述的栅极断线修复方法，其特征在于，在所述栅极电路成型步骤和所述源漏电路成型步骤之间还依次包括栅极电路保护膜成型步骤和金属氧化物成型步骤。

8.一种阵列基板，包括采用权利要求1至7中任一项所述的栅极断线修复方法修复的栅极断线。

9.一种显示装置，包括根据权利要求8所述的阵列基板。