[发明专利]用于固定式辐射剂量率仪原位校准的方法、装置及系统在审

专利信息
申请号: 202210051498.9 申请日: 2022-01-17
公开(公告)号: CN114397695A 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 黄建微;李德红;郭思明;杨扬;张璇;曹蕾;张晓乐 申请(专利权)人: 中国计量科学研究院
主分类号: G01T7/00 分类号: G01T7/00
代理公司: 北京慧诚智道知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11539 代理人: 高梅
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 固定 辐射 剂量率 原位 校准 方法 装置 系统
【权利要求书】:

1.一种用于固定式辐射剂量率仪原位校准的方法,其特征在于,所述方法包括:

在参考辐射场中,对标准设备和拟建数据库型号下的第一待校设备至第n待校设备进行校准,获得所述标准设备的第一校准因子、所述第一待校设备的第一个第二校准因子直至所述第n待校设备的第n个第二校准因子;

在实验室本底条件下,获得所述标准设备的第一本底响应信号、所述第一待校设备的第一个第二本底响应信号直至所述第n待校设备的第n个第二本底响应信号;

使用第一放射源产生第一非扩展齐向场,固定所述第一放射源、所述标准设备和所述第一待校设备为第一相对位置关系,获得在所述第一相对位置关系下,所述标准设备对于所述第一非扩展齐向场的第一响应信号和所述第一待校设备对于所述第一非扩展齐向场的第二响应信号;

根据所述第一校准因子、第一个第二校准因子、所述第一本底响应信号、所述第二本底响应信号、所述第一响应信号和所述第二响应信号,计算所述标准设备和所述第一待校设备在所述第一相对位置关系下的第一个第一相对响应结果,直至计算得到所述标准设备和所述第一待校准设备在第m相对位置关系下的第m个第一相对响应结果;

计算所述标准设备和所述第n待校设备在所述第一相对位置关系下的第一个第n相对响应结果,直至计算得到所述标准设备和所述第n待校设备在第m相对位置关系下的第m个第n相对响应结果;根据所述第一个第一相对响应结果至所述第一个第n相对响应结果,得到所述拟建数据库型号在第一相对位置关系下的第一统计数据,直至根据所述第一个第n相对响应结果至第m个第n相对响应结果,得到所述拟建数据库型号在第m相对位置关系下的第m统计数据;

在原位校准条件下,获得标准设备的第三本底响应信号和当前待校设备的第四本底响应信号;所述当前待校设备的型号存在于所述拟建数据库型号中;

使用第二放射源产生第二非扩展齐向场,固定所述第一放射源、所述标准设备和所述当前待校设备为第一相对位置关系,获得在所述第一相对位置关系下,所述标准设备对于所述第二扩展齐向场的第三响应信号和所述当前待校设备对于所述第二扩展齐向场的第四响应信号;其中,所述第二放射源和所述第一放射源为同一类型的放射源;

根据所述第一校准因子、所述第三本底响应信号、所述第四本底响应信号、在第一相对位置关系下的所述第三响应信号和所述第四响应信号,在第一相对位置关系下第一统计数据,计算所述当前待校设备在第一相对位置关系下的第一原位校准因子,直至得到当前待校设备在第m相对位置关系下的第m原位校准因子;

根据所述第一原位校准因子至所述第m原位校准因子,计算得到目标原位校准因子。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获得所述标准设备的第一校准因子具体包括:

在参考辐射场中的校准点,获取所述校准点处的参考剂量;

将所述标准设备的等效中心放置于所述校准点处,测量得到所述标准设备在本底条件下的本底响应结果;

打开辐照装置,测量得到所述标准设备的响应值;

根据所述参考剂量、所述本底响应结果和所述响应值,确定第一校准因子。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一校准因子、第一个第二校准因子、所述第一本底响应信号、所述第二本底响应信号、所述第一响应信号和所述第二响应信号,计算所述标准设备和所述第一待校设备在所述第一相对位置关系下的第一个第一相对响应结果具体包括:

在第一相对位置关系下的所述第二响应信号减去所述第二本底响应信号后,乘以第一个第二校准因子,得到第一乘积;

在第一相对位置关系下的所述第一响应信号减去所述第一本底响应信号后,乘以第一校准因子,得到第二乘积;

根据所述第一乘积与所述第二乘积的比值,得到第一相对位置关系下的第一个第一相对响应结果。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述得到所述拟建数据库型号在第一相对位置关系下的第一统计数据具体包括:

根据所述标准设备和所述第一待校设备在第一位置关系下的所述第一个第一相对响应结果,至所述标准设备和所述第n待校设备在第一位置关系下的所述第一个第n相对响应结果之和,除以n,得到第一统计数据。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国计量科学研究院,未经中国计量科学研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210051498.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top