[发明专利]用于固定式辐射剂量率仪原位校准的方法、装置及系统在审
申请号: | 202210051498.9 | 申请日: | 2022-01-17 |
公开(公告)号: | CN114397695A | 公开(公告)日: | 2022-04-26 |
发明(设计)人: | 黄建微;李德红;郭思明;杨扬;张璇;曹蕾;张晓乐 | 申请(专利权)人: | 中国计量科学研究院 |
主分类号: | G01T7/00 | 分类号: | G01T7/00 |
代理公司: | 北京慧诚智道知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11539 | 代理人: | 高梅 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 固定 辐射 剂量率 原位 校准 方法 装置 系统 | ||
1.一种用于固定式辐射剂量率仪原位校准的方法,其特征在于,所述方法包括:
在参考辐射场中,对标准设备和拟建数据库型号下的第一待校设备至第n待校设备进行校准,获得所述标准设备的第一校准因子、所述第一待校设备的第一个第二校准因子直至所述第n待校设备的第n个第二校准因子;
在实验室本底条件下,获得所述标准设备的第一本底响应信号、所述第一待校设备的第一个第二本底响应信号直至所述第n待校设备的第n个第二本底响应信号;
使用第一放射源产生第一非扩展齐向场,固定所述第一放射源、所述标准设备和所述第一待校设备为第一相对位置关系,获得在所述第一相对位置关系下,所述标准设备对于所述第一非扩展齐向场的第一响应信号和所述第一待校设备对于所述第一非扩展齐向场的第二响应信号;
根据所述第一校准因子、第一个第二校准因子、所述第一本底响应信号、所述第二本底响应信号、所述第一响应信号和所述第二响应信号,计算所述标准设备和所述第一待校设备在所述第一相对位置关系下的第一个第一相对响应结果,直至计算得到所述标准设备和所述第一待校准设备在第m相对位置关系下的第m个第一相对响应结果;
计算所述标准设备和所述第n待校设备在所述第一相对位置关系下的第一个第n相对响应结果,直至计算得到所述标准设备和所述第n待校设备在第m相对位置关系下的第m个第n相对响应结果;根据所述第一个第一相对响应结果至所述第一个第n相对响应结果,得到所述拟建数据库型号在第一相对位置关系下的第一统计数据,直至根据所述第一个第n相对响应结果至第m个第n相对响应结果,得到所述拟建数据库型号在第m相对位置关系下的第m统计数据;
在原位校准条件下,获得标准设备的第三本底响应信号和当前待校设备的第四本底响应信号;所述当前待校设备的型号存在于所述拟建数据库型号中;
使用第二放射源产生第二非扩展齐向场,固定所述第一放射源、所述标准设备和所述当前待校设备为第一相对位置关系,获得在所述第一相对位置关系下,所述标准设备对于所述第二扩展齐向场的第三响应信号和所述当前待校设备对于所述第二扩展齐向场的第四响应信号;其中,所述第二放射源和所述第一放射源为同一类型的放射源;
根据所述第一校准因子、所述第三本底响应信号、所述第四本底响应信号、在第一相对位置关系下的所述第三响应信号和所述第四响应信号,在第一相对位置关系下第一统计数据,计算所述当前待校设备在第一相对位置关系下的第一原位校准因子,直至得到当前待校设备在第m相对位置关系下的第m原位校准因子;
根据所述第一原位校准因子至所述第m原位校准因子,计算得到目标原位校准因子。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获得所述标准设备的第一校准因子具体包括:
在参考辐射场中的校准点,获取所述校准点处的参考剂量;
将所述标准设备的等效中心放置于所述校准点处,测量得到所述标准设备在本底条件下的本底响应结果;
打开辐照装置,测量得到所述标准设备的响应值;
根据所述参考剂量、所述本底响应结果和所述响应值,确定第一校准因子。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一校准因子、第一个第二校准因子、所述第一本底响应信号、所述第二本底响应信号、所述第一响应信号和所述第二响应信号,计算所述标准设备和所述第一待校设备在所述第一相对位置关系下的第一个第一相对响应结果具体包括:
在第一相对位置关系下的所述第二响应信号减去所述第二本底响应信号后,乘以第一个第二校准因子,得到第一乘积;
在第一相对位置关系下的所述第一响应信号减去所述第一本底响应信号后,乘以第一校准因子,得到第二乘积;
根据所述第一乘积与所述第二乘积的比值,得到第一相对位置关系下的第一个第一相对响应结果。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述得到所述拟建数据库型号在第一相对位置关系下的第一统计数据具体包括:
根据所述标准设备和所述第一待校设备在第一位置关系下的所述第一个第一相对响应结果,至所述标准设备和所述第n待校设备在第一位置关系下的所述第一个第n相对响应结果之和,除以n,得到第一统计数据。
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