[发明专利]一种重构三元层状陶瓷VSnC晶体及其电子束辐照处理方法有效

专利信息
申请号: 202210056052.5 申请日: 2022-01-18
公开(公告)号: CN114368753B 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 李文波 申请(专利权)人: 天津理工大学
主分类号: C01B32/90 分类号: C01B32/90
代理公司: 天津玺名知识产权代理有限公司 12237 代理人: 陈杰
地址: 300000 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 三元 层状 陶瓷 vsnc 晶体 及其 电子束 辐照 处理 方法
【说明书】:

发明公开一种重构三元层状陶瓷VSnC晶体及其电子束辐照处理方法,包括以下步骤,步骤一、制备三元层状陶瓷VSnC粉末;步骤二、制备透射电镜样品,并置于透射电镜中,在粉末样品中寻找表面平整、厚度均匀、无污染且晶带轴与电子束照射方向平行的区域作为辐照区域;步骤三、诱导材料发生晶体重构。本技术方案中三元层状陶瓷VSnC晶体通过对制备三元层状陶瓷VSnC晶体的粉体材料进行合理配比,并对辐照参数进行优化设计,得到单相的三元层状陶瓷VSnC晶体,通过采用常规的电子显微镜,利用电子束辐照诱导三元层状陶瓷VSnC晶体重构,并通过投射电镜观察陶瓷VSnC粉末微结构变化,整个操作简单,烧结过程可控,具有推广应用价值。

技术领域

本发明涉及晶体重构技术领域,具体涉及一种重构三元层状陶瓷VSnC晶体及其电子束辐照处理方法。

背景技术

层状可加工MAX相是一种大类三元化合物,化学式Mn+1AXn,其中M是早期过渡金属,A是元 素周期表第12-16列的元素,X是碳、氮或硼,n是整数,n可为1,2,3……。根据n值,这些化合物又称为211、312、413等,MAX相的晶体结构可以被视为过渡金属碳化物、氮化物或硼化物八面体层Mn+1Xn和A族元素层的交替堆叠,大部分晶体空间群为P63/mmc,由于其独特的纳米层状晶体结构和各向异性键合性质以及在MAX相中交替使用金属和陶瓷层,它们的化学键具有混合共价离子金属的性质,这些材料表现出陶瓷类和金属类特性的独特组合,有广泛的应用价值。例如,MAX相与金属一样易于加工、抗热冲击、导热、导电且耐损坏;也与陶瓷一样,具有密度低、强度和模量高、耐腐蚀性好、耐高温氧化等特点。MAX相与金属一样易于加工、抗热冲击、导热、导电且耐损坏。也与陶瓷一样,具有密度低、强度和模量高、耐腐蚀性好,耐高温氧化等特点。

MAX相中关于VSnC体系的研究较少,V2SnC的晶体结构主要以六角对称结晶,空间群为P63/mmc,但是VSnC体系中也存在许多复杂结构,且三元层状陶瓷VSnC晶体在相图上合成区间狭窄,制备的单相物质,对材料烧结控制比较难,材料粉体性质、素坯密度对致密化影响严重。

发明内容

本发明提供了一种重构三元层状陶瓷VSnC晶体及其电子束辐照处理方法,通过电子束辐照方法制备获得一种重构三元层状陶瓷VSnC晶体,通过对制备三元层状陶瓷VSnC晶体的粉体材料进行合理配比,并对辐照参数进行优化设计,得到单相的三元层状陶瓷VSnC晶体,解决了现有技术制备过程中存在的烧结困难,材料粉体性质、素坯密度对致密化影响严重等技术问题。

本发明通过下述技术方案实现:

一种重构三元层状陶瓷VSnC晶体的电子束辐照处理方法,包括以下步骤:

步骤一、制备三元层状陶瓷VSnC粉末;

步骤二、制备透射电镜样品,并置于透射电镜中,在粉末样品中确定表面平整、厚度相同且晶带轴与电子束照射方向平行的区域作为辐照区域;

步骤三、诱导材料发生晶体重构。

其中,步骤二中,确定的辐照区域为粉末样品中表面平整,厚度均匀且晶带轴与电子束照射方向平行的区域。

可选地,步骤一中,制备三元层状陶瓷VSnC粉末的方法为:V粉、Sn粉和石墨粉按照摩尔比为2:1.1:1,采用无压烧结技术而成。

可选地,制备三元层状陶瓷VSnC粉末的无压烧结技术中,烧结温度为1100℃,所述三元层状陶瓷VSnC粉末在60℃下用盐酸浸泡10h,然后用等离子水和无水乙醇过滤清洗。

可选地,步骤三中诱导材料发生晶体重构具体操作为:在透射电镜中,设置电子束辐照电压为220kV,辐照时间为5min—15min。其中,所述材料为VSnC粉末材料。

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