[发明专利]具有二氧化硅保护膜的碳化硅颗粒捕捉器及其制备方法

权利要求书

1.一种具有二氧化硅保护膜的碳化硅颗粒捕捉器，其特征在于：按重量份数包括72～78份的碳化硅粉末，12～18份的硅粉，6～9份的氧化硅粉末，40～52份的滑石粉，20～35份的氧化铝，8～15份的高岭土，6～9份浓度为5％～10％的硬脂酸、1～5份的甲基纤维素和1～5份的果壳粉。

2.根据权利要求1所述的具有二氧化硅保护膜的碳化硅颗粒捕捉器，其特征在于：所述造孔剂为果壳粉。

3.根据权利要求1所述的具有二氧化硅保护膜的碳化硅颗粒捕捉器，其特征在于：按照重量份数，碳化硅粉末的使用量不超过硅粉使用量的7倍。

4.根据权利要求1所述的具有二氧化硅保护膜的碳化硅颗粒捕捉器，其特征在于：碳化硅粉末粒径为0～1mm，硅粉粒径不超过325目，氧化硅粉末粒径不超过450目。

5.一种如权利要求1所述的具有二氧化硅保护膜的碳化硅颗粒捕捉器的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

1)将所有材料混合，并将主体塑造为所需的主体形态；

2)0～400℃区间，保持正常大气压，甲基纤维素和造孔剂挥发，形成气孔；

3)400～1200℃区间，对产品空间通氩气，保持大气压为0.02～0.04MPa，防止单质硅氧化；

4)1200～1300℃区间，硅粉开始液化，保持硅粉的贫氧环境；

5)1300～1500℃区间，保持氧气浓度1～5％，真空度不大于50Mpa，形成二氧化硅保护膜结构；

6)1500℃保持8小时，充分保温；

7)1500～1200℃，降温速率200℃/小时，快速冷却形成微裂纹，提高产品抗热震性能；

8)1200～室温，降温速率100℃/小时，静置冷却，使得产品成型。

6.根据权利要求5所述的具有二氧化硅保护膜的碳化硅颗粒捕捉器的制备方法，其特征在于：所述步骤4)中，硅粉的贫氧环境中氧气浓度为1～5％。

7.根据权利要求5所述的具有二氧化硅保护膜的碳化硅颗粒捕捉器的制备方法，其特征在于：所述步骤5)中，液化后的金属硅在较少的氧气环境下，缓缓形成熔点更高的二氧化硅，并在氧化硅、碳化硅已经形成固定结构中重塑，形成微裂纹。

8.根据权利要求5所述的具有二氧化硅保护膜的碳化硅颗粒捕捉器的制备方法，其特征在于：所述步骤8)中，为了降温速率恒定，可以将产品静置于温度调至为低于室温的恒温箱中。

9.根据权利要求5所述的具有二氧化硅保护膜的碳化硅颗粒捕捉器的制备方法，其特征在于：所述步骤1)至步骤6)，塑造后的主体设置于烧结炉中进行烧结。