[发明专利]一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法

说明书

本发明公开了一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法，涉及硅片刻蚀领域，包括加装平板、安装感应器、调节涂液组件、感应器报警和硅片刻蚀，且涂液组件包括有开设于平板顶部的多个滑槽，滑槽的内部设置有滑块，滑块的顶部固定有涂液海绵。本发明通过设置有涂液组件，当将硅片放置于滚轮上后，使用者通过移动涂液海绵，涂液海绵移动会带动滑块在滑槽内部滑动，当涂液海绵与硅片的两侧相接触后，使用者将固定螺栓旋入至螺栓孔内部，以对滑块进行固定，防止滑块随意带动涂液海绵移动，而涂液海绵吸附溶液后，由于硅片移动时涂液海绵会将溶液涂至硅片的两侧，防止硅片两侧未被溶液刻蚀便被取走。

技术领域

本发明涉及硅片刻蚀领域，具体为一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法。

背景技术

目前采用的湿法刻蚀技术主要为“水上漂”和滚轮带液两种，“水上漂”技术中需使用硫酸，以达到使硅片漂在液面的浮力，但硫酸污染较大，现正在逐步减少其使用量；滚轮带液技术中硅片不直接接触溶液，而是螺纹滚轮的一部分淹没在溶液中，利用滚轮转动时带起的液对硅片的侧边和背面进行刻蚀，此技术对滚轮的水平型要求较高，生产时在硅片上表面铺上水膜，避免上表面被刻蚀。

现有的改善滚轮带液刻蚀过刻的方法，由于硅片在移动过程中螺纹滚轮只能对硅片底部进行涂液刻蚀，而硅片的侧边处难以与溶液接触并被刻蚀，继而降低了对硅片整体的刻蚀效果，导致硅片未被完全刻蚀便被输送出去；同时由于滚轮在转动过程中可能会左右移动，继而导致滚轮难以将溶液涂至硅片底部并对其刻蚀，继而降低了对硅片的刻蚀效率且影响对硅片的输送效果。

发明内容

基于此，本发明的目的是提供一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法，以解决硅片两侧难以和溶液接触并被刻蚀与滚轮易左右晃动进而会影响对硅片底部的刻蚀效果的技术问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法，包括加装平板、安装感应器、调节涂液组件、感应器报警和硅片刻蚀，且具体实施步骤如下：

步骤一：加装平板

在滚轮带液刻蚀设备的滚轮下加装一个平板，同时使滚轮的外表面和背部均与限位组件相接触；

步骤二：安装感应器

在安装槽内设置感应器，且感应器的顶部与滚轮相接触；

步骤三：调节涂液组件

将硅片放置于滚轮上，并通过硅片的尺寸大小调节涂液组件的位置，使涂液组件与硅片的两侧相接触；

步骤四：感应器报警

若滚轮未与平板贴合，则感应器发出报警信号；

步骤五：硅片刻蚀

通过转动滚轮，以利用滚轮转动时带起的液来对硅片的背面进行刻蚀，且滚轮转动时会带动硅片移动，而涂液组件可对硅片的两侧进行刻蚀。

通过采用上述技术方案，便于对硅片的底部与两侧进行刻蚀，进而提高了对硅片的刻蚀效率。

进一步的，在步骤一中，限位组件包括有开设于平板顶部两侧的多个凹槽，多个所述凹槽的内部均安装有弹簧，所述弹簧的顶端连接有活动块，所述活动块的顶部固定有延伸至凹槽外部的限位柱。

通过采用上述技术方案，限位柱可对滚轮进行限位，防止滚轮左右移动，继而提高了滚轮的稳定性。

进一步的，在步骤三中，所述涂液组件包括有开设于平板顶部的多个滑槽，所述滑槽的内部设置有滑块，所述滑块的顶部固定有涂液海绵，所述滑槽的内部下方开设有多个螺栓孔，所述滑块的顶部安装有延伸至一个螺栓孔内部的固定螺栓。

通过采用上述技术方案，涂液海绵可对硅片的两侧进行刻蚀，避免硅片的两侧没有被有效刻蚀。