[发明专利]一种铁电场效应晶体管存储器件结构在审
申请号: | 202210081555.8 | 申请日: | 2022-01-24 |
公开(公告)号: | CN114420647A | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | 孙静;龚希文;谢斌;贺聘彬;苏焱鸿;钟紫晴 | 申请(专利权)人: | 湖南工程学院 |
主分类号: | H01L23/057 | 分类号: | H01L23/057;H01L23/544;H01L23/00;H05K1/18;G11C11/40 |
代理公司: | 广州速正专利代理事务所(普通合伙) 44584 | 代理人: | 钟水祥 |
地址: | 411104 *** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电场 效应 晶体管 存储 器件 结构 | ||
1.一种铁电场效应晶体管存储器件结构,包括存储器件结构本体,其特征在于:所述存储器件结构本体包括壳体(1)、引脚(3)、压板(2)和防潮板(6),所述壳体(1)的表面贴装有压板(2),所述压板(2)的表面设置有信息标签(5),所述壳体(1)的内部设置有防护层(19),所述防护层(19)的底端设置有衬底(20),所述壳体(1)的底端设置有绝缘柱(8),所述绝缘柱(8)的底端贴装有防潮板(6),所述壳体(1)的两侧连接有多个引脚(3),所述引脚(3)的末端设置有焊板(4),所述焊板(4)的中间设置有锡柱(12),所述锡柱(12)的侧边连接有铜条(13)。
2.根据权利要求1所述的一种铁电场效应晶体管存储器件结构,其特征在于:所述壳体(1)的表面涂抹有填充胶(21),所述压板(2)通过填充胶(21)附着在壳体(1)的顶部。
3.根据权利要求1所述的一种铁电场效应晶体管存储器件结构,其特征在于:所述信息标签(5)由卡块(17)和金属丝(18)组成,所述壳体(1)的表面通过激光雕刻的方式开设有卡槽一(15),所述压板(2)的表面通过切割工艺开设有卡槽二(16),所述卡槽二(16)位于卡槽一(15)的上方,两者相对齐,且卡槽二(16)的宽度小于卡槽一(15)的宽度。
4.根据权利要求3所述的一种铁电场效应晶体管存储器件结构,其特征在于:所述卡块(17)通过将熔融的金属溶液从卡槽二(16)的顶部注入,并将卡槽一(15)和卡槽二(16)完全填充后静置冷却实现定型,所述金属丝(18)在卡块(17)原料溶液冷却前安装在顶部。
5.根据权利要求1所述的一种铁电场效应晶体管存储器件结构,其特征在于:所述绝缘柱(8)的内部嵌装有针杆(11),所述针杆(11)的顶部设置有凸板(10),所述针杆(11)的底端设置有针头(9)。
6.根据权利要求5所述的一种铁电场效应晶体管存储器件结构,其特征在于:所述针杆(11)和凸板(10)组合形成“T”型结构,所述针头(9)穿刺到外部所安装的电路板的表面。
7.根据权利要求1所述的一种铁电场效应晶体管存储器件结构,其特征在于:所述防潮板(6)整体呈圆盘状结构,所述防潮板(6)主要采用三聚氰胺材料组成。
8.根据权利要求1所述的一种铁电场效应晶体管存储器件结构,其特征在于:所述引脚(3)的前端贯穿了壳体(1)的侧边与内部衬底(20)的表面相连,所述引脚(3)和焊板(4)的内部由铜金属组成,且表面镀锡。
9.根据权利要求1所述的一种铁电场效应晶体管存储器件结构,其特征在于:所述焊板(4)的中间开设有通孔(7),所述通孔(7)的内壁上连接有多个铜条(13),每个所述铜条(13)之间的间隔相同,并均以锡柱(12)为中心水平安装在周围。
10.根据权利要求1所述的一种铁电场效应晶体管存储器件结构,其特征在于:所述锡柱(12)的顶部设置有凹槽(14),所述凹槽(14)呈弧形结构,所述锡柱(12)的底端与焊板(4)的底部相齐平,所述锡柱(12)的顶部凸出于焊板(4)的表面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南工程学院,未经湖南工程学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210081555.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。