[发明专利]一种中央处理器型号检测方法、装置、设备及介质在审
申请号: | 202210096002.X | 申请日: | 2022-01-26 |
公开(公告)号: | CN114462438A | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 刘彬 | 申请(专利权)人: | 苏州浪潮智能科技有限公司 |
主分类号: | G06K7/10 | 分类号: | G06K7/10;G06V10/22 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 柳虹 |
地址: | 215100 江苏省苏州市吴*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 中央处理器 型号 检测 方法 装置 设备 介质 | ||
本申请公开了一种中央处理器型号检测方法、装置、设备及介质,涉及机器视觉技术领域,该方法包括:对待检测中央处理器进行拍照处理以得到目标图片;对目标图片进行图像处理与字符识别,以识别出待检测中央处理器上印制的型号信息;将识别出的型号信息与制造执行系统进行对比,以判断制造执行系统中是否存在与识别出的型号信息对应的目标型号;如果制造执行系统中存在与识别出的型号信息对应的目标型号,则通过预设的序列号获取接口获取待检测中央处理器的序列号;将序列号与目标型号发送至预设数据库中,以便预设数据库将接收到的所述序列号与目标型号进行绑定并保存。通过上述方案能够解决中央处理器装配过程中型号不对应和追查根源困难的问题。
技术领域
本发明涉及机器视觉领域,特别涉及一种中央处理器型号检测方法、装置、设备及介质。
背景技术
当前,服务器在生产生活中得到广泛使用。目前的通用服务器因需求大,定制化程度高,而且人工作业速度较慢,随着对产能不断提升的需求,提高生产品质,保障生产效率是势在必行的研究课题。然而,工站的自动化程度不高是目前提升生产品质和效率的困难点。在组装过程中,一方面,传统的中央处理器装配容易造成安装型号和制造执行中要求的型号不对应的情况;另一方面,装配过程中序列号和中央处理器型号没有绑定,也会造成后面追查问题根源困难的问题,查询中央处理器数目的时候也容易出错。综上,在中央处理器装配过程中存在型号不对应和追查根源困难的问题有待进一步解决。
发明内容
有鉴于此,本发明的目的在于提供一种中央处理器型号检测方法、装置、设备及介质,能够有效解决解决在中央处理器装配过程中型号不对应和追查根源困难的问题。其具体方案如下:
第一方面,本申请公开了一种中央处理器型号检测方法,包括:
对待检测中央处理器进行拍照处理以得到目标图片;
对所述目标图片进行图像处理与字符识别,以识别出所述待检测中央处理器上印制的型号信息;
将识别出的所述型号信息与制造执行系统进行对比,以判断所述制造执行系统中是否存在与识别出的所述型号信息对应的目标型号;
如果所述制造执行系统中存在与识别出的所述型号信息对应的目标型号,则通过预设的序列号获取接口获取所述待检测中央处理器的序列号;
将所述序列号与所述目标型号发送至预设数据库中,以便所述预设数据库将接收到的所述序列号与所述目标型号进行绑定并保存。
可选的,所述对待检测中央处理器进行拍照处理以得到目标图片之前,还包括:
通过预设的触发按钮触发IO信号,并将所述IO信号作为中央处理器型号检测信号,以利用所述中央处理器型号检测信号启动所述对待检测中央处理器进行拍照处理以得到目标图片的步骤。
可选的,所述对待检测中央处理器进行拍照处理以得到目标图片,包括:
控制预设蓝色光源以预设照射角度向待检测中央处理器投射光线,并对所述待检测中央处理器进行拍照处理以得到目标图片;其中,所述预设照射角度小于预设阈值。
可选的,所述对所述目标图片进行图像处理与字符识别,以识别出所述待检测中央处理器上印制的型号信息,包括:
对所述目标图片进行均值滤波,以得到均值滤波后图片;
对所述均值滤波后图片进行反相操作,以得到反相后图片;
通过预先训练好的多层感知机对所述反相后图片进行图像识别,以识别出所述待检测中央处理器上印制的型号信息。
可选的,所述将识别出的所述型号信息与制造执行系统进行对比,以判断所述制造执行系统中是否存在与识别出的所述型号信息对应的目标型号之前,还包括:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州浪潮智能科技有限公司,未经苏州浪潮智能科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210096002.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:隔离栅装配设备
- 下一篇:一种云原生数据库服务提供方法、系统、设备及介质