[发明专利]振动元件的制造方法在审
申请号: | 202210099654.9 | 申请日: | 2022-01-27 |
公开(公告)号: | CN114826183A | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
发明(设计)人: | 坂田日和;小林琢郎;西泽龙太;山口启一;白石茂 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | H03H3/02 | 分类号: | H03H3/02 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 马建军;李庆泽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 振动 元件 制造 方法 | ||
1.一种振动元件的制造方法,该振动元件具有基部以及从所述基部沿着第1方向延伸并沿着与所述第1方向交叉的第2方向排列的第1振动臂和第2振动臂,在所述第1振动臂的两主面和所述第2振动臂的两主面具有带底的槽,该制造方法包含:
准备工序,准备石英基板;
保护膜形成工序,在所述石英基板的除了槽区域以外的区域形成保护膜,所述槽区域是形成所述槽的区域;以及
干蚀刻工序,隔着所述保护膜对所述石英基板进行干蚀刻而形成所述槽,
设置在所述第1振动臂和所述第2振动臂中的至少任意一方上的所述槽具有沿着所述第2方向排列的第1槽和第2槽。
2.根据权利要求1所述的振动元件的制造方法,其中,
所述干蚀刻工序包括:在所述石英基板的一个主面形成所述槽的第1干蚀刻工序和在所述石英基板的另一个主面形成所述槽的第2干蚀刻工序。
3.根据权利要求2所述的振动元件的制造方法,其中,
在所述保护膜形成工序中,除了所述槽区域和臂间区域之外,形成保护膜,所述臂间区域是形成所述第1振动臂的第1区域与形成所述第2振动臂的第2区域之间的区域,
在所述干蚀刻工序中,同时形成所述槽以及包含所述第1振动臂和所述第2振动臂的振动臂外形。
4.根据权利要求2或3所述的振动元件的制造方法,其中,
在所述第1干蚀刻工序中,在所述一个主面上形成所述槽的同时,形成所述第1振动臂和所述第2振动臂的外形,
在所述第2干蚀刻工序中,在所述另一个主面上形成所述槽的同时,形成所述第1振动臂和所述第2振动臂的外形。
5.根据权利要求2或3所述的振动元件的制造方法,其中,
在所述第1干蚀刻工序和所述第2干蚀刻工序中,使用CHF3作为蚀刻气体。
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