[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202210126465.6 申请日: 2022-02-10
公开(公告)号: CN114420711A 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 张有为;程一鸣 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;南京京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示基板,其特征在于,包括:

基底,包括显示区和至少位于所述显示区一侧的绑定区;

像素定义层,位于所述基底的一侧,且位于所述显示区和所述绑定区,其中,位于所述绑定区的像素定义层远离所述基底一侧的表面与所述基底的最短距离小于位于所述显示区的像素定义层远离所述基底一侧的表面与所述基底的最短距离。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,位于所述绑定区的像素定义层远离所述基底一侧的表面与所述基底的最短距离为d1,位于所述显示区的像素定义层远离所述基底一侧的表面与所述基底的最短距离为d2,1.5≤d2/d1≤1.9。

3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,位于所述绑定区的像素定义层沿垂直于所述基底的方向的厚度为0.8微米至1微米。

4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括依次设置在所述基底上的第一电极、第二电极和第三电极,所述第一电极、第二电极和第三电极设置在所述绑定区,所述第二电极通过第一过孔电连接所述第一电极,所述第三电极通过第二过孔电连接所述第二电极。

5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括依次设置在所述基底上的第一电极、第二电极和第三电极,所述第一电极设置在所述绑定区,所述第二电极和所述第三电极至少部分设置在所述绑定区,所述第三电极通过第三过孔电连接所述第二电极,所述第三电极通过第四过孔电连接所述第一电极。

6.根据权利要求4或5所述的显示基板,其特征在于,所述像素定义层还包括暴露所述第三电极的绑定开口,在平行于基底的平面上,所述绑定开口的底部的正投影位于所述第三电极的正投影内。

7.根据权利要求4或5所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括位于所述显示区的多个子像素,所述多个子像素中的至少一个包括薄膜晶体管、平坦层以及发光元件;

所述平坦层位于所述薄膜晶体管远离所述基底一侧,以覆盖所述薄膜晶体管;

所述发光元件位于所述平坦层远离基底一侧,且所述发光元件包括阳极;

所述平坦层包括第一平坦层过孔;

所述薄膜晶体管包括位于所述基底上的栅电极,位于所述栅电极远离所述基底一侧的有源层,以及位于所述有源层远离所述基底一侧的源电极和漏电极,并且所述源电极和所述漏电极中之一通过所述第一平坦层过孔与所述发光元件的阳极电连接;

所述第三电极与所述阳极同层设置。

8.根据权利要求7所述的显示基板,其特征在于,所述第一电极与所述栅电极同层设置;

所述第二电极与所述源电极或所述漏电极同层设置。

9.根据权利要求4或5所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括位于所述显示区的多个子像素,所述多个子像素中的至少一个包括薄膜晶体管、平坦层以及发光元件;

所述平坦层位于所述薄膜晶体管远离所述基底一侧,以覆盖所述薄膜晶体管;

所述发光元件位于所述平坦层远离所述基底一侧,且所述发光元件包括阳极;

所述平坦层包括第一平坦层过孔;

所述薄膜晶体管包括位于所述基底上的有源层,位于所述有源层远离所述基底一侧的栅电极,以及位于所述栅电极远离所述基底一侧的源电极和漏电极,并且所述源极和所述漏电极中之一通过所述第一平坦层过孔与所述发光元件的阳极电连接;

所述第三电极与所述阳极同层设置,所述第一电极与所述栅电极同层设置;所述第二电极与所述源电极或所述漏电极同层设置。

10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1至9任一所述的显示基板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;南京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;南京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210126465.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top