[发明专利]一种多坩埚分段真空镀膜室在审
申请号: | 202210153513.0 | 申请日: | 2022-02-18 |
公开(公告)号: | CN114481044A | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 曹蔚琦;金湛;骆中涛;秦琴;冯欢 | 申请(专利权)人: | 重庆诺奖二维材料研究院有限公司 |
主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 黄宗波 |
地址: | 400700 重*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 坩埚 分段 真空镀膜 | ||
本发明属于镀膜设备技术领域,具体涉及一种多坩埚分段真空镀膜室,包括真空箱体,所述真空箱体内安装有电机和用于加热待镀材料的电子枪,所述真空箱体前端设有观察机构,所述真空箱体内还转动安装有转动盘,所述电机的输出端与转动盘传动连接,所述转动盘上安装有多个坩埚。其目的是:通过多个坩埚对不同的待镀材料进行承接,并由电机对安装有坩埚的转动盘进行旋转,可避免在分段镀膜时,只能通过打开镀膜室,对坩埚内被加热的待镀材料进行更换的方式进行,破坏了镀膜室的真空度,若要继续镀膜,只能重新对镀膜室进行真空抽取,使用不便的问题。
技术领域
本发明属于镀膜设备技术领域,具体涉及一种多坩埚分段真空镀膜室。
背景技术
众所周知,在某些材料的表面上,只要镀上一层薄膜,就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。20世纪70年代,在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电,使电解液电解,被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上,因此这种镀膜的条件,基体必须是电的良导体,而且薄膜厚度也难以控制。后者是采用化学还原法,必须把膜材配制成溶液,并能迅速参加还原反应,这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差,而且镀膜既不均匀也不易控制,同时还会产生大量的废液,造成严重的污染。因此,这两种被人们称之为湿式镀膜法的镀膜工艺受到了很大的限制。
而真空镀膜技术就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
现有一种真空镀膜机,采用在真空室内,通过电子枪对坩埚内的待镀材料进行加热,使待镀材料蒸发,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜。
上述真空镀膜机在实际使用过程中,对于被镀基板进行分段镀膜时,只能通过打开镀膜室,对坩埚内被加热的待镀材料进行更换的方式进行,破坏了镀膜室的真空度,若要继续镀膜,只能重新对镀膜室进行真空抽取,使用不便。
发明内容
本发明的目的是:旨在提供一种多坩埚分段真空镀膜室,通过多个坩埚对不同的待镀材料进行承接,并由电机对安装有坩埚的转动盘进行旋转,可避免在分段镀膜时,只能通过打开镀膜室,对坩埚内被加热的待镀材料进行更换的方式进行,破坏了镀膜室的真空度,若要继续镀膜,只能重新对镀膜室进行真空抽取,使用不便的问题。
为实现上述技术目的,本发明采用的技术方案如下:
一种多坩埚分段真空镀膜室,包括真空箱体,所述真空箱体内安装有电机和用于加热待镀材料的电子枪,所述真空箱体前端设有观察机构,所述真空箱体内还转动安装有转动盘,所述电机的输出端与转动盘传动连接,所述转动盘上安装有多个坩埚。
进一步限定,所述真空箱体内还转动安装有挡板。这样的结构设计,在对转动盘进行转动时,可把挡板转动至转动盘正上方,对转动盘进行遮挡,以避免坩埚内剩余的待镀材料,在残余温度下,继续蒸发后,继续溅射到被镀基板上,影响镀膜质量的问题。
进一步限定,所述挡板和转动盘之间安装有传动结构。这样的结构设计,通过传动结构对挡板和转动盘进行连接,可减小电机的使用数量,节约成本。
进一步限定,所述传动结构包括齿轮、齿条、第一转动件和往复架,所述往复架滑动安装在真空箱体上,所述电机带动往复架来回运动,所述齿条固定安装在往复架上,所述齿轮与齿条啮合,所述齿轮和第一转动件均转动安装在真空箱体上,所述齿轮边缘固定安装有第一耳板,所述第一耳板上固定安装有第一转轴,所述第一转动件上固定安装有连接柱,所述连接柱上端径向安装有连接臂,所述挡板固定安装在连接臂的末端,所述第一转动件上还径向开设有第一条形槽,所述第一转轴穿设在第一条形槽内。这样的结构设计,通过电机带动往复架来回运动,即可带动齿轮进行正转和反转,进而带动第一转动件进行正转和反转,实现挡板对转动盘的遮挡和打开,并在遮挡和打开的过程之中,随着第一转动件的转动,当第一转轴脱离第一条形槽后,齿轮继续旋转,不对挡板进行移动,实现挡板的悬停。
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