[发明专利]屏幕杂质的处理方法、装置、系统和电子设备

权利要求书

1.一种屏幕杂质的处理方法，其特征在于，所述方法包括：

对预先获取的初始屏幕进行切割，得到多个目标屏幕；

通过镭射激光，对所述目标屏幕的固有缺陷进行修补，得到修补屏幕；

对所述修补屏幕进行烘烤，以消除所述修补屏幕上的所述屏幕杂质。

2.根据权利要求1所述的处理方法，其特征在于，对所述修补屏幕进行烘烤，以消除所述修补屏幕上的所述屏幕杂质的步骤，包括：

所述烘烤的温度为90℃以上，所述烘烤的时间为3小时以上。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述烘烤的温度为90℃且所述烘烤的时间为4小时；或者，所述烘烤的温度为120℃且所述烘烤的时间为3小时；或者，所述烘烤的温度为150℃且所述烘烤的时间为3小时。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过镭射激光，对所述目标屏幕的固有缺陷进行修补，得到修补屏幕的步骤之前，所述方法还包括：

通过扎针驱动检测方法检验所述目标屏幕是否存在固有缺陷；

若所述目标屏幕存在固有缺陷，则执行所述通过镭射激光，对所述目标屏幕的固有缺陷进行修补，得到修补屏幕的步骤。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述修补屏幕进行烘烤，以消除所述修补屏幕上的所述屏幕杂质的步骤之后，所述方法还包括：

将烘烤后的所述修补屏幕作为最终屏幕；

通过扎针驱动检测方法检测所述最终屏幕中的屏幕杂质，得到所述最终屏幕的屏幕质量；

根据所述屏幕质量，对所述最终屏幕进行分类。

6.一种屏幕杂质的处理装置，其特征在于，所述装置包括：

切割模块，用于对预先获取的初始屏幕进行切割，得到多个目标屏幕；

镭射修补模块，用于通过镭射激光，对所述目标屏幕的固有缺陷进行修补，得到修补屏幕；

烘烤模块，用于对所述修补屏幕进行烘烤，以消除所述修补屏幕上的所述屏幕杂质。

7.一种屏幕杂质的处理系统，其特征在于，所述处理系统用于执行权利要求1-5任一项所述的屏幕杂质的处理方法；所述屏幕杂质的处理系统包括：切割结构、镭射修补结构和烘烤结构；

切割结构，用于对预先获取的初始屏幕进行切割，得到多个目标屏幕；

镭射修补结构，用于通过镭射激光，对所述目标屏幕的固有缺陷进行修补，得到修补屏幕；

烘烤结构，用于对所述修补屏幕进行烘烤，以消除所述修补屏幕上的所述屏幕杂质。

8.根据权利要求7所述的处理系统，其特征在于，所述处理系统还包括：翻转结构、定位结构、承接结构、点灯结构和出货结构；

所述翻转结构，用于对屏幕进行翻转；

所述定位结构，用于对屏幕进行定位校准；

所述目标屏幕放置于所述承接结构上；

所述点灯结构，用于通过扎针驱动检测方法检验屏幕是否存在缺陷；

所述出货结构，用于对屏幕分别进行打包并出货。

9.根据权利要求8所述的处理系统，其特征在于，所述点灯结构包括第一点灯结构和第二点灯结构；

所述第一点灯结构，用于通过扎针驱动检测方法检验所述目标屏幕是否存在固有缺陷；

所述第二点灯结构，用于通过所述扎针驱动检测方法检验最终屏幕的屏幕质量。

10.一种电子设备，其特征在于，包括处理器和存储器，所述存储器存储有能够被所述处理器执行的机器可执行指令，所述处理器执行所述机器可执行指令以实现权利要求1至5任一项所述的处理方法。